KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺
- 发布时间：2023/7/3 10:26:31
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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR 工艺
配备 800万或以上像素的手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR Coating 后, 滤光片会提升3～5%的透光率, 让图像更清晰且让滤光片不容易起雾. 上海伯东协助某从事光学玻璃镀膜机生产的客户, 在光学镜头材料蓝玻璃 AR工艺方面实现技术突破！
经过推荐客户采用光学镀膜机加装美国进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 在离子清洗, 辅助沉积时, 提高蓝玻璃的薄膜 / 基层物的附着性和硬度, 减少吸收残余气体的污染物和薄膜应力. 上海伯东美国 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在蓝玻璃上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.
应用方向: 离子清洗, 辅助沉积
应用领域: 光学镜头
薄膜工艺: 蓝玻璃镀 AR增透膜
产品类别: 滤光片
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.
美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数：
| 型号 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
| Discharge 阳极 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 |
| 离子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
| 离子动能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
| 栅极直径 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
| 离子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
| 流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
| 通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
| 典型压力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
| 长度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
| 直径 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
| 中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生