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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺

发布时间:2023/7/3 10:26:31
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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR 工艺
配备 800万或以上像素的手机都基本内嵌蓝玻璃滤光片的摄像头. 蓝玻璃滤光片通过 AR Coating 的镀膜, 可以增加透光率和反射红外光. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR Coating 后, 滤光片会提升3~5%的透光率, 让图像更清晰且让滤光片不容易起雾. 上海伯东协助某从事光学玻璃镀膜机生产的客户, 在光学镜头材料蓝玻璃 AR工艺方面实现技术突破!

经过推荐客户采用光学镀膜机加装美国进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 在离子清洗, 辅助沉积时, 提高蓝玻璃的薄膜 / 基层物的附着性和硬度, 减少吸收残余气体的污染物和薄膜应力. 上海伯东美国 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在蓝玻璃上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

应用方向: 离子清洗, 辅助沉积
应用领域: 光学镜头
薄膜工艺: 蓝玻璃镀 AR增透膜
产品类别: 滤光片
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试
射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长!  射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

KRi 射频离子源


美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数:

型号

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 阳极

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

离子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

 

流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直径

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000


上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生

 

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