伯东公司代理等离子刻蚀机 RIE/ICP
产品简介
详细信息
伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。
等离子刻蚀机 RIE/ICP 产品特色:腔室温度控制范围:室温~
应用领域:适用于各种金属、Si、SiO2、SiN、GaAs、GaN等II-VI族和III-V族材料的刻蚀
伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。
等离子刻蚀机 RIE/ICP 产品特色:腔室温度控制范围:室温~
应用领域:适用于各种金属、Si、SiO2、SiN、GaAs、GaN等II-VI族和III-V族材料的刻蚀