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CM2000 混悬液研磨分散设备 德国进口IKN胶体磨

供应商:
上海依肯机械设备有限公司
企业类型:
生产厂家

产品简介

混悬液研磨分散设备为德国进口IKN胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

详细信息

以固体颗粒分散于分散媒中,颗粒或液滴与分散媒之间有相界面,称为混悬液混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大,微粒与分散介质之间存在着物理界面,是混悬微粒具有较高的表面自由能,混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。若要制得沉降缓慢的混悬液,应减少颗粒的大小,增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。实验工作中主要应用前两种手段增加稳定性。增稠剂可用糖浆、天然胶类、以及合成的可溶性纤维素类。加入表面活性剂可以降低界面自由能,使系统更加稳定,而且表面活性剂由可以作为润湿剂,可有效的解决疏水性药物在水中的聚集。颗粒的絮凝与其表面带电情况有关,若加入适量的絮凝剂(电解质)使颗粒ζ电位降至一定程度,微粒就发生絮凝,混悬剂相对稳定,絮凝沉淀物体积大,振摇后易再分散。加入反絮凝剂电解质)可以增加已存在固体表面的电荷,使这些带电的颗粒相互排斥而不致絮凝。

   混悬液胶体磨*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

  混悬液胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

200

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

5000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

8000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

 

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