CMD 复方油混悬注射液均质胶体磨
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· 高质量,根据FDA或者EDEHG标准设计
· 可排尽其内物质
· 适合于CIP和SIP
· 用优质材料制成(所有零件)
· 配备适合于医药应用的密封件
· 可提供防爆设计
· 可从实验室级升级到生产级
当涉及特殊生产要求时,我们能够按照客户的要求,采用高质量的代用材料制造机器和设备。产品接触的表面可达到任何质量要求。 详询上海依肯 工程师 林万翠
往高温灭菌后的注射用油或酯中加入助悬剂制成凝胶溶媒体系,依次加入乳化剂、润湿剂及抗氧剂,再加入盐酸*和盐酸*后经ikn胶体磨充分研磨即得到*与*复方油混悬注射液。此法可以有效地提高*的稳定性,减少使用时对动物机体的刺激性,且制备工艺简单,可操作性强,具有较大的推广价值。
粉碎在药品生产中具有重要的意义。例如,将中药材粉碎至适宜粒度,有利于药材中的有效成分的浸出或溶出。又如,制备散剂、颗粒剂、丸剂、片剂等所需的固体原料药均应粉碎至细粉,以利于制备成型。再如,将固体药物粉碎成较小粒径的颗粒,可增大药物的比表面积,促进药物的溶解与吸收,从而提高生物利用度。
ikn复方油混悬注射液胶体磨采用德国*的高速研磨分散技术,工作腔体部分是“胶体磨+分散机”的二合一组合,通过超高转速(gao可达14000rpm)带动超高精密的磨头定转子(通常配CM 8SF,定转子间隙在0.2-0.3之间)使石墨烯浆料在设备的高线速度下形成湍流,在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质,从而得出超细的颗粒(当然也需要合适的分散剂做助剂)。
研磨分散机(改进型胶体磨)腔体工作头分工:
研磨头:用于湿磨,或用于坚硬粒状原材料的研磨,也可用于细乳化和高粘物料处理。
研磨头结构,一次循环即完成细化处理
磨头间隙可调,可灵活控制流量
研磨头的*设计方式,三级锯齿,每个沟槽的深度不一样,从上到下深度由深变浅,由款变窄,使研磨的物料越磨越细
分散头:用于研磨后再次细化和团聚打开
从物理学角度分析ikn胶体磨与guo内胶体磨作用力区别:
上海依肯机械IKN-进口胶体磨设备通过皮带加速正常输出转速为9000rpm,通过变频调节较大可达14000rpm,guo内普通胶体磨设备的转速为3000rpm。以相同型号设备的为比对标准,定转子直径大小为55mm,相对的我司胶体磨设备的线速度为:
V1=3.14×0.055×9000/60 =25 M/S
V2=3.14×0.055×14000/60=40 M/S
而guo内普通胶体磨设备的线速度为10~15m/s。由数据显示IKN胶体磨为国内胶体磨的3~4倍!
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率(s-1)=v速率(m/s)÷g定-转子间距(m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
一:转子的线速率
二:在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN胶体磨定-转子的间距范围为0.2~0.4mm
F1=(25/0.25)X1000=92,000 S-1
F2=(40/0.25)X1000=160,000 S-1
普通转速为3000RPM的机型大约在14,293 ~ 21,544 S-1
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