化工机械设备网

登录

其它行业设备其它其它

GH-216 昆山国华等离子表面处理设备技术研发

供应商:
昆山国华电子科技有限公司
企业类型:
生产厂家

产品简介

昆山国华等离子表面处理设备技术研发:水平真空GH-216机台用途: 5种气体通入,不同组合用于不同工艺制造,可用于高频板PTFE类、软硬结合板、多层软板等除胶渣等制造工艺,柔性板化金前后清洗、打线邦定前清洗等处理,SMT前清洗等。对外提供代以下加工服务:柔性板、软硬结合板、高厚径比硬板钻孔后、沉铜前孔壁蚀刻,孔壁除胶渣;PTFE(特氟龙)等高频微波板 沉铜前的孔壁表面活化;阻焊前板面活化。

详细信息

 

    1、产品规格

 

昆山国华等离子表面处理设备技术研发

 

国华GH-216等离子体表面清洗系统标准配置表

机台名称

等离子体表面清洗系统

机台型号

GH-216

机台用途

5种气体通入,不同组合用于不同工艺制造,可用于高频板PTFE类、软硬结合板、多层软板等除胶渣等制造工艺,柔性板化金前后清洗、打线邦定前清洗等处理,SMT前清洗等

技术参数

备注

1

机台整机规格

1450mm(W)×1720mm(H)×1300 mm(D)

 

2

真空室规格

进口铝进口铝 600(W)×600(H)×600(D))mm

 

3

电极板规格

进口铝 582(W)×500D)mm

 

4

单层有效处理区尺寸

530(W)× 450D)mm

 

5

真空电极结构

水平电极板10层, 处理9层工件

 

 

极板间距/上极板到托架

51mm/32.5mm

 

6

真空泵系统

真空泵组韩国优成

 

7

PLC自动控制系统硬件

OMRON/SIEMENS-PLC及扩展模块(D/A转换、A/D转换、温度控制)

日本欧姆龙/西门子

8

人机工控系统

触摸屏式全中文界面

 

9

温度控制系统

OMRON/SIEMENS温度传感模块,PID闭环控制,温度可控

 

10

真空测定系统

皮拉尼电阻式真空计

日本爱发科

11

真空供气系统

Ф6品牌软管+不锈钢锁套管路

进口优质不锈钢

12

真空排气系统

全不锈钢管路+波纹管

进口优质不锈钢

13

破真空系统

倒计时自动开合启动

 

14

气体控制系统

电磁阀控制

日本CKD

15

气体计量系统

2路精确质量流量控制计:MFC

SevenStar

16

等离子发生器

额定功率:0-1000W,射频全自动匹配国华自主研发)

 

17

其他组件

国内外元器件

 

18

机台总重

600kg

 

19

额定功率

额定功率 4.5KW

 

20

机台供电

 AC-380V-50Hz,三相五线

 

21

单次处理时间

10-60分钟不等(根据产品特征,时间设定不同)

 

22

工作真空度

0.15~0.3Torr (可根据要求设定,可恒定真空度)

 

23

真空泵极限压力

5pa以下

 

24

抽真空时间

抽到工作真空≤180秒

 

25

破真空时间

≤60秒

 

26

供气方式

电磁阀式

 

27

流量计调节范围

2路独立MFC  0-500sccm(毫升/分钟),      

 

28

操作方式

人工取放工件,一键启动自动控制

 

电源需求

AC380V,50/60Hz,三相五线  5KW

场地需求

设备占地1000*960,需要预留操作空间,建议2500*2200以上

压缩空气要求

0.5~0.8MPa,干燥

真空泵排风

≥1立方/分钟,*尾气处理管道即可、直径50MM

系统环境温度要求

≤30℃(室温)

工艺气体要求

0.5~0.8MPa:CF4=99.999%;O2=99.99%;N2=99.99%;
H2=99.99%;Ar2=99.99%   设备配6MM气管快接  ( 若使用方使用气瓶需要配减压阀)

昆山国华等离子表面处理设备技术研发应用行业:

① 陶瓷封裝:

陶瓷封裝中通常使用金屬漿料印制線路板作鍵合區、蓋板密封區。在這些材料

的表面電鍍Ni、Au前采用國華等離子清洗,可去除有機物鑽汙提高鍍層質量。

② 引線框架的表面處理:

微電子封裝領域采用引線框架的塑封形式,仍占主流,其主要采用導熱性、導

電性、加工性能良好的銅合金材料作爲引線框架,銅的氧化物與其它一些有機

汙染物會造成密封模塑與銅引線框架的分層,造成封裝後密封性能變差與慢性

滲氣現象,同時也會影響芯片的粘接和引線鍵合質量,確保引線框架的超潔淨

是保證封裝可靠性與良率的關鍵,經國華等離子體處理可達到引線框架表面超

淨化和活化的效果,成品良率比傳統的濕法清洗會極大的提高。

③ 芯片粘接前處理:

芯片與封裝基板的粘接是兩種不同性質的材料,材料表面通常呈現爲疏水性和

惰性,粘接性能較差,粘接過程中界面易産生空隙,給密封封裝後的芯片帶來

很大的隱患,對芯片與封裝基板的表面進行等離子體處理能有效增加其表面活

 

性,極大的改善粘接環氧樹脂在表面的流動性,提高芯片和封裝基板的粘結浸

潤性,減少芯片與基板的分層,改善熱傳導能力,提高IC封裝的可靠、穩定性,

增加産品壽命。在倒裝芯片封裝方面,對芯片及封裝載板進行等離子體處理,

不但能得到超淨化的焊接表面,還大大提高焊接表面的活性,有效的防止虛焊,

減少空洞,提高焊接的可靠性。同時可提高填充料的邊緣高度和包容性,改善

封裝的機械強度,降低因不同材料的熱膨脹系數而在界面間形成內應的剪切力。

④引線鍵合打線:

集成電路引線鍵合的質量對微電子器件的可靠性有決定性影響,鍵合區必須無

汙染物並具有良好的鍵合特性。汙染物的存在,如氧化物、有機殘渣等都會嚴

重削弱引線鍵合的拉力值。傳統的濕法清洗對鍵合區的汙染物去除不徹底或者

不能去除,而采用等離子體清洗能有效去除鍵合區的表面沾汙並使其表面活化

,能明顯提高引線的鍵合拉力,極大的提高封裝器件的可靠性。

 

在攝像頭安裝前對SMT半成品,特別是鏡頭、底座、粘接上膠、打線前清潔與活化處理

① 顯示器熱壓:

熱壓工藝覆蓋上一層柔性膜或是導電橡膠。這層薄膜構成電路板和由兩層薄玻璃板形成的顯示面板之間的柔性連接。在生産過程中,由于指印、氧化物、有機汙染物和各種交叉汙染物,會明顯地影響生産過程中的相關工藝質量,降低薄膜和顯示面板之間的粘合力。用等離子預處理工藝,可以徹底去除玻璃表面的有機汙染物和其它雜質,提高粘合力,從而提升了粘合質量,降低廢品率。這也同樣適用于采用熱壓焊接和精密焊接的工藝流程。

② 顯示屏組裝:

組裝工藝中如玻璃基材蒸鍍或濺鍍ITO膜前,由于玻璃表面很髒造成清洗困難,達不到清洗效果,而等離子體清洗能有效的出除表面油脂、灰塵等汙染物,使之達到超潔淨清洗目的;ITO玻璃塗覆光阻前進行等離子體處理能有效提高表面浸潤性、去除汙染物、減少氣泡産品、去除圖形轉移後殘留的化學藥劑。LCD模組粘合工藝中去除溢膠等有機類汙染物、偏光片、防指紋膜等貼合前表面清洗和活化。

③ 顯示屏玻璃:要在顯示器的表面噴塗上一層特殊的塗層改善顯示器的抗刮擦性能,並加采用PC(聚碳酸酯)和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)制造的顯示器表面的質量。確保該塗層良好的粘合性,必須對表面進行預處理。國華低溫等離子體技術可以對顯示器生産的工藝流程進行簡化,並大大降低廢品率。