SCS112 SCSe124 SCSe126 晶圆，光掩膜和基板清洁系统
产品简介
SCS112型是一款高效率手动型的系统，专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环（抓环）或胶片框架上的晶圆，然后使用高转速，氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统大可处理8英寸晶圆。
详细信息
功能：
- 可处理高达8英寸的晶圆，包括未安装的晶片以及胶带环形和薄膜框架安装晶片。
- 振荡高压直流水，风扇射流组装(取决于高达1500或2000磅/平方英寸 配置上)或雾化喷雾喷嘴，高效清洁。
- 快速有效干燥的氮气吹扫和循环结束时的氮晶片提升。
- 微处理器控制并储存多种配方。
- 直流无刷主轴电机变速。
- DI水净化，营造无细菌系统。
- 内置安全联锁和正极盖，运行期间锁定。
选项:
- 托盘，大可装载8英寸晶片
- 用于干燥的红外线加热灯
- 消除静电的二氧化碳再生离子器
- 内置排气鼓风机
- 真空发生器
产品参数：
- 产品：晶圆，光掩膜和基板清洁系统
- 型号：SCS112
- 可用机械臂：1
- 大基板尺寸：高达8英寸的晶圆片
- 大主轴速度：2500
- 配方：多3
- 分配：1
- 尺寸：26英寸宽x 21英寸深x 40英寸高
- 重量：约200磅
- 功率：220伏交流电，10安培，50/60赫兹
主营产品：
Laurell匀胶机
Harrick等离子清洗机
Thetametrisis膜厚仪
Microxact探针台
ALD原子层沉积系统
TRION反应离子刻蚀机
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻机
Novascan紫外臭氧清洗机
Nilt纳米压印机
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板
Annealsys高温退火炉
Kinematic程序剪切仪
Laurell EDC系统，湿站系统
Wabash/Carver自动压片机