丹麦NILT 纳米压印模板掩膜-化工机械设备网

丹麦NILT 纳米压印模板掩膜

供应商：: 深圳维尔克斯光电有限公司

企业类型：: 代理商

产品简介

丹麦NILT供应各类材质（包括硅、石英、聚合物、镍、PDMS）的纳米压印模板掩膜标准品。具体有抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光栅模板，金属线栅偏光镜标准模板，微针体标准母膜，大面积柱形标准母膜，微图形标准模板（MICRO），亚微米标准模板等热压印模板。

详细信息

丹麦NILT公司是的纳米压印模板掩膜供应商，其提供纳米压印机和纳米加工模板在内的一系列纳米压印相关产品，包括各类材质，各类功能的压印模板，掩膜。

NILT通过热模压、滚印、注射模塑和紫外压印等不同的工艺，能生产制造出各类不同功能的纳米压印模板。其中标准的压印掩膜（模板）根据功能的不同，分为抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光栅模板，金属线栅偏光镜标准模板，微针体标准母膜，大面积柱形标准母膜，微图形标准模板 (MICRO)，亚微米标准模板。

NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)，纳米压印模板掩膜

抗反射膜模板的特点是以大面积为主；适用于可见光范围和近红外范围，反射率可减低到 0.2%

规格	Type B	Type A	Type C	Type NIR
模板型号	ARSS_B_06	ARSS_A_02	ARSS_C_02	ARSS_NIR_02
材质	Nickel	Nickel	Nickel	Nickel
光栅类型	Hexagonal Array	Hexagonal Array	Hexagonal Array	Hexagonal Array
Pitch	300 nm	250 nm	250 nm	500 nm
Average height	300 nm	350 nm	350 nm	Larger than 700 nm
模板厚度	300 µm	300 µm	300 µm	300 ?m
模板尺寸	70 mm x 70 mm	120 mm x 120 mm	250 mm x 250 mm	100 mm x 100 mm
有效面积	50 mm x 50 mm	100 mm x 100mm	200 mm x 200 mm	80 mm x 80 mm
Expected %R PMMA	Less than 0.6%	Less than 0.2%	Less than 0.2%	Less than 0.2% Less than 0.3%
Pattern polarity	Protrusions	Protrusion	Protrusions	Holes

NIL Technology衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)

衍射光栅采用镍材质模板，表面纹路分为线状或交叉状两种，平均深度为250nm，线距为500nm。适合用于：LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING，将不同光导入波导WAVEGUIDE，光学分束，镭射感应器，薄膜行业和太阳能光伏等。

特点：

纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ，纹路的参数也不同

80 x 80mm有效面积（模板面积为100 x 100mm）

规格：

规格	Linear Grating	Crossed grating
模板型号	DG_L500	DG_C500
材质	Nickel	Nickel
Profile shape	Sinusoidal	Sinusoidal
Pitch	500 nm	500 nm
Average depth	250 nm	250 nm
模板厚度	300 µm	300 µm
模板尺寸	100 mm x 100 mm	100 mm x 100 mm
有效面积	80 mm x 80 mm	80 mm x 80 mm

NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)

一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试，而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板，可避免频繁的测试，免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状，槽宽、槽距均为50nm，模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm，模板复制子模适用于UV或热压过程。

规格：

规格	Type A	Type B
模板型号	WGPSS_A_V1	WGPSS_B_V1
模板尺寸	2 inch round wafer with flat	2 inch round wafer with flat
材质	Silicon	Silicon
有效面积	12 mm x 12 mm	6 mm x 6 mm
模板厚度	500 µm +/- 25 µm	500 µm +/- 25 µm
结构类型	50 nm wide grooves with 50 nm spacing	50 nm wide grooves with 50 nm spacing
横向公差	+/- 10 nm	+/- 10 nm
结构深度	100 nm	100 nm
垂直公差	+/- 15 nm	+/- 15 nm
缺陷密度	Less than 0.01% of patterned area	Less than 0.01% of patterned area

NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)

NILT提供的微针体标准模板的特点是特点：1. 微针呈正方形排列相隔500um； 2. 有效面积达70mm(斜角计)

微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状，可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试，医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。

规格：

规格	Micro-needle - Type A
模板型号	MNSS_A_V1
材质	Silicon
微针布局	Square array
微针基本尺寸	100 µm x 100 µm
微针高度	200 µm (base to tip)
微针*高度	70 µm
微针*曲率半径	~1 µm
微针间距	500 µm
模板尺寸	100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)
模板厚度	525 µm (SEMI standard wafer with a flat)
有效面积	70 mm diagonal square area in the center

NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)

NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度，形状可选择直线、椭圆形和圆形，定制性强，面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LED、LCD的背光源，而同时拥有很高的透光率。

规格
Circular version	Type B	Type D
模板型号	EDSS_B_C_V1	EDSS_D_C_V1
结构类型	Engineered Diffuser	Engineered Diffuser
输出类型	Circular diffusion	Ciruclar diffusion
Diffusion angles (FWHM)*	25°	25°
材质	Nickel	Nickel
模板厚度	300 µm	300 µm
模板尺寸	70 mm x 70 mm	120 mm x 120 mm
有效面积	50 mm x 50 mm	100 mm - 100 mm

NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)

大面积柱形标准模板采用光子晶体结构，是以方形排列光子晶体并分布在4个1平方米的格子的硅晶圆上。

可选4种不同规格的大面积柱形模板，结构尺寸在125 – 275nm之间，

规格:

规格
模板型号	LAPSS_V1
模板尺寸	2 inch round wafer
材质	Silicon
厚度	525 µm +/- 25 µm
结构尺寸	125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)
Structure pitch	200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm
Protrusion height	100 nm - 300 nm (you decide!)
Tolerance, lateral and vertical dimensions	+/- 15%
缺陷密度	Less than 0.1% of total patterned area

NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)

亚微米标准模板的图形有3种，包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um)，是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的，材料可选择硅或石英，标准尺寸为 20 x 20mm。

规格：

模板型号	MSS_V1
模板尺寸	20 mm x 20 mm
材质	Silicon
厚度	1 mm
结构尺寸	1 µm - 50 µm
Etch depth	2 µm, 5 µm or 10 µm
Pattern field size	4 mm x 4 mm
交期	3-4 weeks

NIL微图形标准模板 (MICRO)

微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状，其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。

规格：

模板型号	SMSS_SIQZ_V1
模板尺寸	20 mm x 20 mm
材质	Silicon or Fused Silica
厚度	1 mm
结构尺寸	500 nm - 2 µm
Etch depth	1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica
Pattern field size	5 mm x 5 mm
交期	3-4 weeks

微透镜阵列模板

NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米微加工模板，用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。材质一般采用熔融石英或镍制成。 NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度，因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。

压印模板的直径可达150mm，镜头尺寸从300nm-400μm，还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。

微透镜阵列压印模板
压印模板尺寸	可达150 mm
压印模板材质	熔融石英或镍
微透镜尺寸	300 nm - 400 µm
SAG	可达 50 µm
Lens arrangements	Hexagonal closed packed
	Square and hexagonal, not closed packed
	Lenticular