IM4000 日立高新离子研磨装置IM4000
产品简介
HITACHI Ion Milling System IM4000 的混合模式带有两种研磨配置：
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择
详细信息
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。
HITACHI Ion Milling System IM4000 的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（zui大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。
HITACHI Ion Milling System IM4000 的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。
特点
混合模式：两种研磨配置
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察
平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性
高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(zui大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)
可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型
规格
| 项目 | 描述 | |
| 断面加工台 | 平面研磨台 | |
| 气源 | 氩气(Ar) | |
| 加速电压 | 0-6Kv | |
| zui大研磨速率﹡¹﹡²（硅材质） | 约300μm/h﹡¹﹡² | 约20μm/h﹡³（点） 约2μm/h﹡?（面） |
| zui大样品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 样品移动范围 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋转角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 摆动角度 | ±15°，±30°，±40° | ±60°，±90° |
| 倾斜 | - | 0-90° |
| 气体流量控制系统 | 流量调节器 | |
| 排气系统 | 涡轮分子泵(33L/S)+机械泵(50Hz时，135L/min,60Hz时，162L/min) | |
| 仪器外观尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 仪器重量 | 主机48kg+机械泵28Kg | |
| 可选附件 | 光学显微镜（用于观测研磨中的样品） | |
﹡¹：此研磨速率是对研磨板边缘处的硅材质的材料研磨至100μm粒度时所获得的zui大深度值 ﹡²：此研磨速率是对硅材质的材料进行研磨两小时后获得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm | ||