| | | 一、用途 XPV-203E/XPV-203Z 透反射偏光显微镜及熔点测定系统是地质、矿产、冶金、石油化工、化纤、半导体工业以及药品检验等部门和相关高等院校高分子等专业的专业实验仪器。透反射偏光显微镜可供广大用户作单偏光观察,正交偏光观察,锥光观察及显微摄影,观察物体在加热状态下的形变、色变及物体的三态转化。透反射偏光显微镜采用微电脑检测,有自动P、I、D调节及模糊手动调节功能,通过LED显示温度值及设定温度值,仪表显示准确、清晰、稳定,对温度控制 | | | 透反射偏光显微镜 XPV-203E | 透反射偏光显微镜 XPV-203Z | 查看大图 | 查看大图 | 可设定程序,设有“上、下”限自动报警 装置,并可随时检查设定的温度数据,是新一代熔点测温、控温装置。显微镜配置有石膏λ、云母λ/4试片、石英楔子和移动尺等附件。本仪器具有可扩展性,可以接计算机和数码相机,对图片进行编辑、保存和打印。是一组具有较完备功能的新型产品。 | 二、系统简介 | 透反射偏光显微镜系统是将精密的光学显微镜技术、*的光电转换技术、的计算机图像处理技术地结合在一起而开发研制成功的一项高科技产品。透反射偏光显微镜可以在显示屏上很方便地观察实时动态图像,并能将所需要的图片进行编辑、保存和打印。 | 三、技术参数: | 1.目镜: 类 别 | 放大倍数 | 视场(mm) | 网格目镜 | 10X | φ18 | 十字目镜 | 10X | φ18 | 分划目镜 | 10X | φ18 | 2.物镜: 类 别 | 放大倍数 | 数值孔径(NA) | 工作距离(mm) | 盖玻片厚度(mm) | 物 镜 | 4X | 0.10 | 7.80 | - | 10X | 0.25 | 4.70 | - | 25X | 0.40 | 1.75 | 0.17 | 40X | 0.65 | 0.72 | 0.17 | 63X | 0.85 | 0.18 | 0.17 | 3.放大倍数:40X-630X 系统放大倍数:40X-2600X 4.聚光镜数值孔径:NA1.2/0.22 摇出式消色差聚光镜,中心可调。 5.起偏镜:振动方向360°可调,带锁紧装置,可移动光路 6.检偏镜:可移出光路,旋转范围90°内置勃氏镜,中心、焦距可调 7.补偿器:λ片(φ18mm,一级红,光程差551nm) λ/4片(φ18mm, 光程差147.3nm) 石英楔子(12x28mm,Ⅰ-Ⅳ级) 8.调焦系统:带限位和调节松紧装置的同轴粗微调,格值为0.002mm 9.电光源:6V/20W卤素灯(亮度可调) | 四、反射照明、同轴照明器(又名垂直照明器) 同轴照明器又名垂直照明器,它是显微镜垂直照明系统,系统系数1倍,可适配与各型号的普通(160mm机械筒长,斜筒式)显微镜 。可作为反射光照明系统下观察不透明物体表面细微结构。 垂直照明装置配置与显微镜上不仅能进行一般金相分析、微粒分析测试还可以对非金属不透明物体进行分析、观察而且配有偏光系统,作偏光观察。 | 五、系统组成 | 透反射偏光显微镜(XPV-203E):1、偏光显微镜 2、同轴照明器 3.摄像器(CCD) 4.A/D(图像采集) 5、计算机 透反射偏光显微镜(XPV-203Z):1、偏光显微镜 2、同轴照明器 4、数码相机系统 | 数码显微成像系统 | | 电脑显微成像系统 | | 六、选购件 | 1、高像素成像系统 2.偏光显微镜分析软件 | 工厂实验室选型 | 高校实验室选型 | 典型应用图例 | 仪器图解说明 | 偏光动态图例 | | | | |