化工机械设备网

全套电子自动化流量控制（AEFC，Automated Electronic Flow Control）
网络化数据通讯及远程控制系统 （LAN communication）
检测器设计 （Advanced detector design）
全部汉化的键盘和软件操作界面 （Chinese version of keypad and software）
*的电源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的环境测试（高温高湿） （Strict environment test for QA）
精密的程序升温炉膛温度控制 (Precise programmable oven temperature control)
独立加热小柱箱 （Separated columns oven)
的分析结果重复精度 (High reproducibility of analysis results)
强大的自检及报错功能 (Strong function of self-diagnostic)
可实现序列自动运行 (Sequence Run Available)
各种阀配置满足气体分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微气路切割技术实现多位色谱及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)

柱温箱

炉膛尺寸:28×30×18 cm
操作温度范围：高于室温5℃～400℃
温度设定精度：1℃
程序升温zui高阶数:7阶
zui高程序升温速度: 120℃/min
zui长一次方法运行时间：999.99min
可运行柱流失补偿（双通道）

进样口

双通道进样口
进样口类型可选：
填充柱进样口（带隔垫吹扫，可接大口径毛细管柱）
毛细管柱分流/不分流进样口）
分流/不分流毛细管柱进样口
高精度电子压力/流量控制
zui高使用温度400°C
柱头压力设定范围：0-100psi
柱头压力控制设定精度：0.01psi
总流量设定范围：
0 —1000 mL /min（氦气）
0 —200mL/min（氮气）
流量设定精度：0.1 mL /min
zui大分流比：1：1000

氢火焰离子化检测器（FID）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450°C
zui小检出限：<2.5皮克碳/秒
动态线性范围：107（+10%）
数据采集频率：zui高100HZ

热导池检测器（TCD）

高精度电子流量/压力控制、
适配于填充柱和毛细管柱、
zui高使用温度300℃、
数据采集频率：zui高100hz、
动态线性范围:105(±10%)、
zui小检出限：<400皮克 丙烷/毫升（氦气）

电子捕获检测器（ECD）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度400 °C
隐性阳极（带吹扫）
检测器补偿气类型：5%甲烷/氩气或者氮气
数据采集频率：zui高100HZ
动态线性范围：>5X105
zui小检出限：<0.01mCi  63Ni

氮磷检测器（NPD）

高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450 °C
zui小检出限：<3皮克 碳/秒
动态线性范围：105N，105P
数据采集频率：zui高100HZ
zui小检测限：<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
选择性：25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc