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Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。

产品特性：

•27.12MHz高密度等离子制程

•SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系：可对应SiO2膜

•以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能

•可对应有机EL（OLED）的低温成膜用heater

•使用Tray可搬送多种基板尺寸

•通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）

产品应用：

•功率器件

•LED、LD、高速device等化合物相关

•有机EL（OLED）开发

•太阳电池开发

•MEMS