尼康Nikon二手光刻机NSR-2005 I8A翻新现货
产品简介
详细信息
光刻机NSR-2005 I8A用于集成电路生产中的微光刻工艺。是用来将掩膜版上形成的集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复投影成像在晶圆表面上。
该机含有晶圆自动传输系统、版库自动管理系统、可编程掩膜版光栏、自动调焦调平、晶圆自动对准、掩膜版自动对准、镜头倍率控制、自动光量控制、图形自动优化设计计算、故障显示报警等*功能。
将曝光掩膜版和晶圆分别装入掩膜版库和晶圆传输单元后，NSR-2005 I8A型投影光刻机将按照操作软件设定的数据格式、工作时序自动完成包括掩膜版、晶圆的交换、自动对准、自动调焦、自动分步曝光在内的工作过程。
设备改造后，可以适用 4/6/8 英寸蓝宝石基片的自动上片进行光刻加工。
参数属性
No. 项目 性能指标 备注 1 分辨率（Resolution） ≤0. 55 umμm 胶厚 1μm 条件下，达到或优于 0.5μm 为合格 2 焦深（DOF） 0.7μm 分辨率变化10%的z 向范围。 3 镜头畸变（lens distortion） ≤±80nm 4 调焦重复性（FocusCalibration Repeatability） 3σ≤120nm 5 曝光面积（Maximum Exposure Area） 20mm×20mm 6 照明光强（Exposure Power） ≥550mw/cm2 换新灯后 30 分钟 7 照明均匀性（Illumination Uniformity） ≤±1.5％ 8 掩模光栏控制精度（Reticle Blind Setting Accuracy） ＋0.4mm—0.8mm 9 套刻精度（Overlay Accuracy） |M|+3σ≤110nm 10 步进重复精度（Stepping Precision） 3σ≤80nm 11 工作台正交性（Array orthogonality） ±0.2 秒 12． 硅片预对准（WaferPre-alignmentrepeatability） ≤±20um 13 硅片传输成功率： 99% 100片 14 掩膜传输成功率： 99%
二手尼康Nikon翻新现货 光刻机NSR-2005 I8A价格大约80万美金左右，更多详细参数和技术修改以及方案对接，请咨询我们进行详谈。