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佳能二手翻新光刻机KrF扫描仪FPA-6300ES6a

供应商:
青岛佳鼎分析仪器有限公司
企业类型:
其他

产品简介

佳能半导体光刻设备,高分辨率/高生产率KrF扫描仪FPA-6300ES6a二手翻新现货优势特点:FPA-6300ES6a扫描仪提供高生产力通过使用新设计的ReticleWaferStages加速曝光过程,通过改进对齐顺序和减少晶圆处理时间来缩短处理时间

详细信息

佳能半导体光刻设备,高分辨率/高生产率 KrF 扫描仪FPA-6300ES6a 二手翻新现货

佳能二手翻新光刻机KrF扫描仪FPA-6300ES6a

优势特点:

FPA-6300ES6a 扫描仪提供高生产力

通过使用新设计的Reticle& Wafer Stages加速曝光过程,通过改进对齐顺序和减少晶圆处理时间来缩短处理时间。FPA-6300ES6a 的吞吐量超过 200 wph(每小时晶圆),是之前的FPA-6000ES6a型号扫描仪的 1.6 倍。

FPA-6300ES6a 扫描仪实现行业的叠加精度

为了限度地减少曝光期间的重叠错位和场内失真,FPA-6300ES6a采用了*的平台振动和同步控制技术。对准范围也得到改进,以便更准确地测量晶片上的对准标记。
此外,通过精确控制曝光区域和光罩区域的温度,实现了业界的≤5nm的Mix&Match叠加精度。

FPA-6300ES6a 扫描仪提供高可靠性

与早期的 FPA-6000 平台扫描仪相比,FPA-6300ES6a平台在基本耐用性和维护要求方面提供了显着改进,并减少了安装时间并增加了系统正常运行时间和可用性。FPA-6300ES6a选项和升级进一步提高了覆盖精度和生产力,提供可扩展性以支持下一代半导体制造。

参数规格

解析度
≦ 90 纳米
NA(数值孔径)
0.86~0.50(可变)
减速比
1:4
字段大小
26 毫米 x 33 毫米
曝光波长
KrF 248 纳米
光罩尺寸
6英寸
晶圆尺寸
200 毫米(8 英寸)、300 毫米(12 英寸)(选择)
叠加精度
≦ *5 纳米
主体尺寸
(W) 2,300 x (D) 5,155 x (H) 2,900 毫米
主要选项
各种混合和匹配叠加改进选项
各种吞吐量改进选项
各种 CD 均匀性改进选项
聚焦精度改进选项 (F-MAP)
聚焦点自动卡盘清洁
各种生产力改进选项
AFIS照明系统
SMIF OHT套件
PC 远程控制台
GEM 兼容在线软件
Pellicle Particle检查器