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尼康公司（东京港区总裁 Kazuo Ushida）发布了一代尼康 ArF 浸入式扫描仪 NSR-S631E。该光刻系统专为大批量半导体制造中的 7 纳米节点工艺而开发。它支持多重图案* ，并具有经过验证的Streamlign平台（也用于的 NSR-S630D）的高精度和出色的生产力。NSR-S631E 可满足下一代客户的制造要求，进一步提高覆盖和产量，这在多重图案化工艺中至关重要。

NSR-S631E通过使用新型投影镜头以及改进的对准系统标记检测和测量，提供 2.3 nm 或以下的混合匹配覆盖 (MMO * )。S631E 还可以通过每小时高达 270（96 次）晶圆的生产能力限度地提高晶圆厂的生产力。

主要特征

1.配备Streamlign平台

• 鸟瞰控制：显着提高叠加精度的测量系统

  结合用于晶圆载物台位置测量的编码器和干涉仪的混合系统，分划板载物台位置使用 2D 编码器进行测量。这使得每个平台的位置测量不受空气波动的影响，从而提高了叠加精度。

• 流对齐：可显着提高吞吐量的测量技术

  通过将现场图像对准 (FIA) 显微镜的数量增加到五个（五眼 FIA）*，可以在更短的时间内执行对准测量。五眼 FIA 可将吞吐量损失降至，即使必须测量多个点（几乎等于全部镜头数量）也是如此。

• Modular 2 (Modular Squared) Structure：模块化结构，提高可维护性

  分层模块化结构意味着在客户现场启动设备所需的时间更少，并简化了系统维修。这大大提高了可维护性。

• *五眼 FIA：改进型的 FIA，有 5 个对准显微镜，而不是传统的 1 个。

2. 提高产品性能

S631E 采用新开发的投影镜头设计，提供更好的像差校正功能，以确保的成像性能。此外，创新的测量光学系统提高了产品的对准和聚焦精度。