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GD90-RF射频辉光放电质谱仪
GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行整体的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及缘体等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。
GD90-RF射频辉光放电质谱仪主要由三部分构成：辉光放电离子源、质量分析器、检测器。另外还包括一些辅助系统，如真空系统、离子光学系统、电学系统和数据采集控制系统等。而GD90-RF射频辉光放电质谱仪具有灵活的双离子源系统：直流源（DC）和射频源（RF）。GD90-RF离子源包含直流源和射频源，切换简单方便，可以直接分析不同尺寸的块状、针状及粉末样品。高电离阈值材料离子源室，有效避免电离时带来的污染。
GD90-RF射频辉光放电质谱仪的主要特性：
1、对块状、针状或粉末状的导体或非导体样品进行直接分析；
2、高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要；
3、广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据；
4、由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应；
5、低至亚ppb级的检测限；
6、具有深度剖析能力；
7、少的样品制备过程。