Plasma 3000 Plasma 3000 ICP光谱仪
产品简介
详细信息
分光系统
径向观测与轴向观测设计,适应亚 ppm 到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用 CaF2 棱镜,提高光路传输效率。 优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。 包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器,高效稳定,体积小巧,效率高,匹配速度快,能适应各种复杂基体样 品及挥发性有机溶剂的测试,均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术,地降低自吸效应和电离干扰,从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景,保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式,待机时降低输出功率,减小气体流量,仅维持等离子体运行,节约使 用成本。
简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 实时监控仪器运行参数,高性能 CAN 工业现场总线,保障通讯高效可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计,自动定位炬管位置,精确的位置重现。 仪器配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐 / 复杂基体样品、含氢氟酸(HF) 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。 使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,保障测试性能长期稳定。 多通道 12 滚轮蠕动泵,提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式 CCD 检测器 , 全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出,具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,从而获得更为快速、准确的分析结果。 同类产品中靶面尺寸,百万级像素,单像素面积 24μm X 24μm,三级半导体制冷 , 制冷温 度 低,具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计,流畅易懂,简便易用,针对分析应用优化的软件系统,无须复杂的方法开发, 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库,智能提示潜在干扰元素,帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置,直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽,减少电磁辐射 连锁门保护,避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗