化工机械设备网

概述：
HLTD-A21型自动二次热解吸仪是本公司自主研发生产的单工位二次（带低温聚焦冷阱）热解吸仪，是一款集采样、吸附、脱附、进样、老化一体式的二次热解吸仪，通过二次冷阱聚焦和直接电阻加热快速升温的方法，解决了一次解吸峰型差和解吸率低的问题。配置大触摸屏，人机交互简易便捷。

一、 主要功能及特点
1. 全自动系统安全可靠
2. 软硬件模块化设计、结构紧凑
3. 通用性能强：可与基本所有品牌气相色谱仪（GC）和气质联用仪（GC-MS）联用
4. 人机交互简洁，易操作，自动化程度高（软件自动完成全部吸附管的脱附进样分析过程），样品重复性好
5. 配备大触摸液晶屏，界面信息丰富、齐全，操作简单，方法参数设置，实时显示工作状态、运行时间，全程跟踪温度、操作命令等
6. 吸附管、进样阀、传输管、聚焦管（制冷、加热），均可单独控制温度，10种方法供编辑、存储和随时调用，一键自动完成样品分析
7. 冷阱采用半导体制冷+风冷，制冷温度可达-40℃（室温20℃时）
8. 六通阀采用电机驱动，无需外接驱动气体
9. 六通阀与传输管线链路无传输冷点，均可控温加热，减少样品损失，保证了样品的完整性，自带标样制样功能
10. 提供同步接口，在进样同时可同步启动气相色谱、质谱、色谱数据处理工作站，也可用外部事件程序启动本装置，六通阀进样方式有效降低死体积，保证了进样精度
11. 样品管路采用硅烷化惰性处理不锈钢管，减少污染残留
12. 具有检漏和故障报警功能
突出的制冷温度和升温速率保证得到精准的色谱峰形

一、 性能指标
1. 一次解吸（吸附管）温度控制范围：室温～420℃
2. 六通阀进样系统温度及控制范围：室温～220℃
3. 样品传输管线温度及控制范围：室温～220℃
4. 二次解吸（聚焦管）温度控制范围：室温～450℃，升温速率>4200℃/min
5. 冷阱（电子半导体制冷）温度控制范围：-40℃～室温，无需液氮制冷
6. 温度控制精度：<±0.1℃
7. 温度控制梯度：<±0.1℃
8. 气路耐压：>0.4MPa
9. 样品位：1位
10. 反吹流量：0～150ml/min（连续可调）
11. 模拟采样流量：100ml/min（可调）
12. 样品解吸、吹扫、进样和反吹时间：
样品解吸时间：0s～1000min
样品吹扫时间：0s～1000min
样品进样时间：0s～1000min
管路反吹时间：0s～1000min
13. 定时范围：1s～1000min
14. 定时误差：<0.1%
15. 分析精度：RSD <2.5%（和GC性能、操作技术有关）
16. 吸附管规格：直径6mm或1/4英寸
17. 同步信号输出：2路开关量，联动开关时间为1～2秒
18. 电源：AC220V 50Hz
19. 功率：700W（峰值）
20. 仪器尺寸：600×305×540ｍｍ3
21. 仪器重量：约30kg