光伏电子行业超纯水设备
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光伏电子行业超纯水设备
我公司光电行业高纯水设备设采用预处理+RO反渗透+EDI+抛光混床+杀菌等工艺，终端产水达到国家电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）、国家电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准。
LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路在生产过程需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。高纯水设备在光电行业应用的范围：
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏；
☆高品质显像管、荧光粉生产；
☆半导体材料、原材料生产、加工、清洗；
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料；
☆实验室和中试车间；
☆汽车、家电表面抛光处理；
☆光电产品；
☆其他高科技精密产品。泉瑞QRCJ系列光电行业纯水典型工艺：
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统去离子水设备工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(去离子水设备工艺)
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM）(去离子水设备工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(去离子水设备工艺)
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统去离子水设备工艺)
