Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™
产品简介
详细信息
Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 技术规格：
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具集成
Aston™ 过程质谱分析仪作为一个强大的平台, 可以取代多种传统工具, 提供的控制水平, 包括光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
Aston™ 过程质谱分析仪技术参数
| 类型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
| 型号 | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
| 质量分离 | 四级杆 | |||||
| 真空系统 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 | 分子泵 |
| 检测器 | FC /SEM | |||||
| 质量范围 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
| 分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
| 检测限 | 0.1 PPM | |||||
| 工作温度 | 15-35“℃ | |||||
| 功率 | 350 W | |||||
| 重量 | 15 kg | |||||
| 尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Atonarp Aston™ 应用: 半导体工艺过程控制和优化的重大发展, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率
Aston™ 是一款全新设计坚固耐用的紧凑型在线质谱仪, 适用于半导体制造和工业过程控制应用中气体监测和控制, 高定量精度和实时性与生产稳健性和可靠性相结合, 例如半导体 dry pump 尾气侦测分析, 实现在线监控,诊断.
CVD / ALD: 氧化物-氮化物过渡及成分分析
Etch/ALE End Point :<0.3%
Chamber Matching:识别跟踪分子
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