H-CVD-1200R CVD高真空快速退火炉
产品简介
详细信息
一、概述：
这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉，2通道气路系统和真空系统组成。真空系统采用中科科仪FJ-110机组。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。本套系统用于CVD退火，也可以应用于于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
二、主要技术参数
快速红外加热炉 | 电压 | AC3800V 50/60Hz |
功率 | 24KW | |
加热区长 | 400mm | |
使用温度 | 1100℃ | |
工作温度 | ≤1000℃ | |
升温速率： | ≤300℃/min | |
温控系统 | PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器， | |
恒温精度 | ±5 | |
石英管 | Φ50/60/80100*1400mm | |
两路质量流量控制系统 | 电压 | 185~245V/50Hz |
输出功率： | 18W | |
流量计标准量程 | 300SCCM | |
工作温度： | 5~45 oC | |
工作压差： | 0.1～0.5 MPa | |
压力： | 3Mpa | |
准确度： | ±1.5% FS | |
真空系统 | 产品型号：F-100/150型涡轮分子泵 厂家： 中科科仪 技术参数： 抽速速率(l/s)：150 进气口法兰：LF100(ISO-K) 排气口法兰:KF25 压缩比：N2: 108 H2：5X10102 建议启动压强：＜100pa 额定转速（rpm）：42300 启动时间（min）：≤2 冷却方式：风冷 冷却温度（℃）：≤25 安装方式：水平或者垂直 重量：8kg 2.2干泵： 产品型号：GWSP300 厂家：沈阳纪维， 技术参数： 极限真空度 Pa 2.60 排气速度 l/s 4.30 m3/h 15.5 噪音值 dB(A) ≦60 漏率（排气口和气镇阀关） Pa·m3/s 1×10-8 进/排气压力 MPa 0.1 /0.13 进/排气口尺寸 KF25/KF16 工作环境温度 ℃ 5～40 冷却方式 风冷 单相电机 功率 0.55 电压 V 200～230V, 50Hz 转速 rpm 1425(50Hz)， 接头形式 国标、 转速 rpm 1425(50Hz)， 外形尺寸 ： 495×305×355 净重 单相 kg 27 其他 带气镇阀 电阻真空计： 测量范围：（1.0x105~1.0x10-1)pa 配备规管：ZJ-52T（可选择接口） 测量路数：1路 显示方式：LED数码显示或双显（可选） 电源：AC220V±10%50HZ 攻耗：20W 重量：≤1KG 机箱尺寸：96*96 控制路数：2路（可扩展） 控制范围：（1.0x105~1.0x10-1)pa 控制方式：点控或区域控制 控制点负载能力：AC220V/3A无感负载 测量精度：±30% 响应时间：〈1S 模拟输出：（0~5）V；（4~20）mA（选配） 通讯接口：RS-232；RS-485（选配） | |
法兰及支撑 | 304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑 包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等 | |
可选配件 | 混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机等。 | |