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仪器简介：

纳米压印的技术与工艺特点，*性地设计和制备工作于低真空环境下，结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的，通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印过程，借助于多种灵活的自动调节装置的巧妙设计与运用，实现压印中的自动找平调控，以保证模板纳米图案均匀精确的大面积复制转移。

技术参数：

YPL-NIL-SI400纳米压印系统： 

温度范围从室温到350摄氏度； 
压力范围从0到20个PSI（在4英寸晶元上）； 
紫外曝光系统； 
真空范围从1个标准大气压到0.1帕； 
水冷系统； 
样品尺寸直径zui大4英寸； 
PLC远程控制，带触摸屏； 
手动装载样品和模板； 
自带机器控制软件； 
在软件控制下可实现自动增加和释放压力； 
可定制更大样品尺寸或更大压力系统的纳米压印机。 

YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM 
*Thermal Imprinter
Temperature range of R.T. to 350℃ 
Pressure range of 0 to 20 atm 
*UV exposure system 
*Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa 
* Sealed Bellows 
*Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for 
irregular shaped samples and piece parts. 
*Control electronics 
*PLC control and Touch Screen 
*Manual loading and unloading of wafers and masks 
*Proprietary Machine Control Software 
Including （A） SI400 nanoimprint system （B） training, Warranty, other, and （C） Options

主要特点：

该纳米压印机利用紫外曝光或者热压固化实现压印图案在压印高分子胶层中的复制，并通过各项功能与过程参量的优化与筛选，通过远程PLC控制系统结合触摸屏单元，实现纳米压印全过程的实时监控与全自动化控制。