得到50nm范围内的研磨
较小的研磨腔体和强大的输入功率，同样是很小粒径的研磨介质得到高强的运动，剪切。平均粒径常在50nm以内。
使用0.1-0.8mm的研磨介质
改进设计的棒销体系，使较小的锆珠能够高速运转，离心式分离系统，在使用较小锆珠的同时，保持出料顺畅，实现高流量。
实现连续循环式研磨腔
创建的直桶型密度室的研磨腔，根据选定的模式，定子和桶内的距离，在7.5至13毫米范围内，转子的运动使介质保持径向运动，对产品的剪切力不断增加，缸体内形成连续不断的循环，短时间内使粒径达到要求。
粉碎室的几何状设计，确保均匀的颗粒和分布。
应用于高纯度，无污染的材料
对要求无污染的物料，研磨棒销可使用氧化锆，碳化钨材料；研磨桶可使用碳化硅、聚氨酯材质，出料器使用特殊的陶瓷材料。