混悬液胶体磨

混悬，不溶性固体颗粒分散于液体分散介质的过程称为混悬。

混悬液的稳定剂，在混悬液里加入一种物质，使混悬液保持亚稳定状态，加入的物质称为稳定剂。

混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大，微粒与分散介质之间存在着物理界面，是混悬微粒具有较高的表面自由能，混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。

若要制得沉降缓慢的混悬液，应减少颗粒的大小，增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。实验工作中主要应用前两种手段增加稳定性。增稠剂可用糖浆、天然胶类、以及合成的可溶性纤维素类。

加入表面活性剂可以降低界面自由能，使系统更加稳定，而且表面活性剂由可以作为润湿剂，可有效的解决疏水性药物在水中的聚集。颗粒的絮凝与其表面带电情况有关，若加入适量的絮凝剂（电解质）使颗粒ζ电位降至一定程度，微粒就发生絮凝，混悬剂相对稳定，絮凝沉淀物体积大，振摇后易再分散。加入反絮凝剂（电解质）可以增加已存在固体表面的电荷，使这些带电的颗粒相互排斥而不致絮凝。

胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用*几何机构的研磨定转子，的表面处理和材料，可以满足不同行业的多种需求。

高剪切胶体磨运行原理：

高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。设备咨询： 陶 广州办

高剪切胶体磨主要用途

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。

IKN胶体磨结构：

三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。

CM2000系列的特点：

①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

CM2000系列设备选型表

注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到zui大允许量的10%

IKN的CM2000系列和国内设备相比

① 转速：

国内设备：目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。）

IKN：可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)

② 三级结构：

虽然都是三级结构

国内设备：沟槽是直线，同级的沟槽深度一样。

IKN：沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅。

③ 磨头的结构

国内设备：斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大。

IKN： 沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

这样形成了本质的区别，我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

④ zui大线速度（如磨头的相同直径）：

国内设备：大约在10-15m/s

IKN：可达到23-40m/s

⑤ 模块头：

国内设备：只有一种模块头。

IKN：可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

⑥ 密封形式

国内设备：单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

IKN：双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

⑦ 工作腔体方式

国内设备：卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，清洗苦难

IKN：立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏符合流体流动原理，易于清洗

⑧ 产品效果

国内设备：粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。

IKN：间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。