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吗丁啉研磨分散机,混悬液研磨分散机,高剪切研磨分散机
胶体溶液除了高分子溶液以外,还包括溶胶,它由多分子聚集体作为分散相的质点,分散在液体分散媒中。如果以固体颗粒存在于分散媒中,颗粒与分散媒之间有相界面称为混悬液。混悬液在药品制造中应用非常广泛,在口服、外用、注射、滴眼、气雾以及*等剂型中都有应用,常见的有*混悬液,*混悬液,*混悬液,布*混悬液等等。
*混悬液,适应症为1.由胃排空延缓、胃食道反流、食道炎引起的消化不良症。上腹部胀闷感、腹胀、上腹疼痛;嗳气、肠胃胀气;恶心、呕吐;口中带有或不带有反流胃内容物的胃烧灼感。2.功能性、器质性、感染性、饮食性、放射性治疗或*所引起的恶心、呕吐。用多巴胺受体激动剂(如*、溴隐亭等)治疗帕金森氏症所引起的恶心和呕吐,为本品的*适应症。*混悬液应用于感冒或流感引起的发热、头痛、也用于缓解中度疼痛如关节痛、神经痛、偏头痛、牙痛等
混悬液型药剂一般指不溶性药物颗粒分散在液体分散媒内所形成的不均匀分散系的液体药剂。混悬剂的要求是:混悬的微粒应细微均匀、下沉缓慢、其速度不影响剂量的正确量取;下沉后的微粒不结块,稍加振摇即能均匀分散;在*贮存中粒子大小保持不变;不太粘稠,易倾倒;外形美观,味道可口并具有一定的防腐能力;外用混悬剂应易于涂布,不易流散,能快速干燥,干后能形成不易擦掉的保护膜。混悬剂的微粒要求一般在1um左右,粒径分布范围窄。上海依肯高剪切研磨分散机由胶体磨和分散机组成的高科技产品,兼具研磨和分散两大功能,为国内*,转速高达9000rpm,强大的线速度带来的剪切力,使物料在可无级调节的磨头间隙间产生强烈的湍流、撕裂、碰撞作用,颗粒在研磨至0.1-1微米的同时通过定转子分散作用,分布范围更窄,效果更好;非常适合用于药品制备,也适用医药行业的微球乳化。
IKN高剪切研磨分散机的特点(吗丁啉研磨分散机,混悬液研磨分散机,高剪切研磨分散机):
IKN研磨分散机是上海机械设备公司和德国IKN工程师合作研发的一款高科技产品,由胶体磨、分散机组合而成;是国内*一款将研磨和分散两种功能结合的zui*的流体设备。
3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4.在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5.高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
6.具体设备咨询: 陶国伟 广州办,公司有样机提供实验。
CMD2000系列研磨分散机的结构(,混悬液研磨分散机,高剪切研磨分散机):
*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列设备选型表:
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
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CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2.处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3.如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4.本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准.
研磨分散机和均质机的作用对比:
研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。