碳纳米管三级抛光剂胶体磨，高剪切抛光剂胶体磨，抛光剂胶体磨，抛光剂胶体磨，抛光剂研磨机

主要作用表现在通过活性表面除去停留在金属表面的油污、氧化及未氧化的表面杂质，保持物体外部的洁净、光泽度、色牢度。通过研磨作用影响外观的质感，提高抛光的效率。

碳纳米管的应用十分广泛，不仅应用于橡胶、工程塑料、合成树脂等复合材料上用于提高材料应力水平，还可用于导电材料，电磁屏蔽材料，锂电池、燃料电池、胶体铅酸电池的电极改性，以及新型高速光电传感器 。

碳纳米管三级抛光剂胶体磨的分散效果 影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
 shsina定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
                             

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的。根据一些行业特殊要求，新浪公司在NK2000系列的基础上又开发出NKD2000超高剪切三级剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s。

技术参数

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。