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药剂用的包衣成分大概为HPMC，丙烯酸树脂，乙醇，滑石，钛 ，聚乙二醇，色素，制作方式为使用中等黏度的HPMC，以乙醇作分散剂，然后加水溶解，加入滑石、*后进行研磨处理。医药级*颗粒粒径一般＜0.1μm，即通常所说的纳米级。材料达到纳米尺度以后会表现出很多.. 纳米尺寸效应.., 以零维的微观颗粒来讲, 当颗粒尺寸达到纳米尺度以后, 其团聚效应显著增加, 团聚体内颗粒的相互吸引力也显著增大, 分散难度变大。

CIK肠溶性包衣高剪切多级研磨分散机包衣研磨分散机NK2000系列特别适合于超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。

包衣研磨分散机NK2000采用了三级错齿磨头定转子，磨头定转子间隙在0.2-0.7之间，间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙，在转速不变的情况下，间隙越小，速胶体磨研磨、分散效果会越好。故名思意，高速胶体磨有着非比寻常的转速，CIK工程师们通过改变皮带轮的传动比例，使原本只有3000rpm的电机，经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明，在磨头定转子间隙不变的情况下，转速越高，高速研磨机研磨、分散效果越好。如果客户想要使物料达到更好的效果，我们提供丹弗斯变频器供客户选择，高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm，是国内设备转速的4-5倍，可谓是极速。

CIK肠溶性包衣高剪切多级研磨分散机包衣研磨分散机NK2000结构机理：由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分：硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理，增强刀齿的硬度，起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。

                          

包衣研磨分散机与国内胶体磨的性能比较：
一、转速和剪切速率：
CIK胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 
S-1
F=40/0.7/X1000=57142 
S-1
国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 
S-1
通过转速比较可知，这是乳碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍。
二、胶体磨头和间距：
CIK胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，NK胶体模块，NKO胶体模块，批次液液混合模块，连续液混合模块，间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工。
国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。
三、机械密封：
CIK胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转；
国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁。

四、清洗：
CIK胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计*，立式结构符合流体原理，清洗更简便。
国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，通常情况，需要拆卸机器进行清洗。


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