Now capable of measuring 0.1 µm particles in semiconductor special material gases 
Simultaneous 5-channels particle measurement 
Rated flow rate:100mL/min, max.300 mL/min. 
Direct measurement of inert gas as well as corrosive, reactive and other gases 
Realizes leak-tight, outgas-free conditions without dead space 
Supports to SiH4, SiHCl3, HBr, NH3, PH3, HCl,etc. 

< Specification >