产品参数：

可处理衬底尺寸：直径大为8英寸的晶圆片，或大为6英寸 x 6英寸的衬底；

旋转速度：达9,000 rpm（以1 rpm步长可调）；

固定晶圆片或衬底的装置：真空托盘；

处理时间：（1-999秒，可在1秒内调整）；

加速度：1-5,000rmp/sec；

其他参数：20个程序段，每个40步

设备尺寸：约 480mmx 360mm x 416mm(不带盖子)

选配件：

适用各种尺寸大小的托盘

分配臂

泵

主营产品：

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统，湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

控制器尺寸：约 145mmx 100mm x 120mm