UV光解废气处理设备去除了废气中含有的部分酸性气体和粉尘。废气仍然由下而上进入燃烧塔，在燃烧塔中燃烧后，除去了废气中含有的有机物，后再经过一层水幕除尘过程，再去除气体中因燃烧产生的粉尘，燃烧后的二氧化碳和水就排入大气中即可。 

在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触，净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后，进入汽提塔顶部，在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。

UV光解废气处理设备

特点：

① 不需要高成本的化学药剂，运行稳定，耐腐蚀，耐负荷冲击能力大。

② 针对特定有害气体成份驯化适当的微生物，提高单位容积的负荷率。

③ 填料采用有机无机混合填料，比表面积大，孔隙率高，并可为微生物

提供营养，可支撑大量不同种群微生物群。

④ 填料活性介质的损失小、可减少能耗，降低运行费用。

⑤ 采用强化自然生物降解污染物，无二次污染物产生。

⑥ VOC去除率高，对H2S的去除率可达99%。

⑦ PLC控制系统自动运行，无需人员管理。

光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物*氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在*的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温。

从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。