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车间废气处理设备从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
车间废气处理设备
适用场所:
① 污水处理厂预处理、生化处理、污泥处理过程恶臭气体的净化和治理。
② 垃圾处理过程中的堆放、分拣、堆肥、填埋、焚烧以及垃圾渗滤液污水处理站恶臭气体
的净化和治理。
③ 涂料与喷漆、炼焦、制药、橡胶塑料、印染皮革、有机染料及合成材料厂和发酵
制药、石油化工、制鞋厂、印刷厂、造纸厂、畜牧养殖、饲料加工、粪便处理等恶臭气体净化和治理。
特点:
① 采用单级或多级串联洗涤,对污染物去除*,去除效率高。
② 处理高浓度恶臭废气具有明显优势,运行稳定。
③ 具有启动速度快、可间歇运行、耐冲击负荷强、
受温度影响小、运行稳定等特点。
④ 自动化程度高,占地面积小。
Wintop-CW化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。