工业废气处理设备从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是较广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

工业废气处理设备

适用场所：

① 食品加工业（用于水产、肉禽、蔬菜等食品加工车间，冷藏室等）。

主要功能： 降低空气中粉尘浓度；消除孢子、细菌病毒、异味。

② 污水、垃圾处理厂等市政行业（用于污水厂、污水泵站、污泥堆场、粪便处理场等）

主要功能：去除有害气体；消除悬浮物及有害气体、异味；减少灰尘、杀灭病毒。

③ 室内空气净化（用于饭店、机场、车站、游轮、客房、商店、展览馆、火车站、体育馆等）。

主要功能：减少空气中可吸入颗粒物；防止细菌侵害及交叉感染；提高室内空气的离子浓度。

④ 化学工业的静电、除尘（用于化学工业、电脑机房、造纸工业、电子工业、印刷业等）。

主要功能：减少空气中的灰尘；消除静电、异味、挥发性有机溶剂。

特点：

① 活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构，克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷，使活性炭过滤设备结构设计近乎于*。

② 活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍，阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风，其方向不受场地条件限制可任意摆放，抽风机和设备对接极易，排放管可直接固定于设备上，系统整齐合理。

废气的产生部位比较多，并且分散在车间中，因此在处理废气之前必须先把废气收集起来，所以需要集气系统对其进行收集后统一进行处理。