半导体用纯水处理设备,单晶硅用纯水处理设备,集成电路用纯水处理设备,超大范围集成电路用(又称超纯水机、超纯水设备等),显象管用高纯水设备(高纯水制取装置),触摸屏用超水设备,液晶显示用超水设备,高精度线路板用纯水处理设备,光学、光电类器件用纯水处理设备,各类电子器件用纯水处理设备,微电子工业用超纯水设备(光电等行业中电路所需制取超纯水的装置)、 IC 芯片封装行业用高纯水设备(高纯水制取装置),太阳能硅片清洗用纯水处理设备, LCD 清洗用超纯水设备。

具体介绍

工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用纯水处理系统

工业(又称超纯水机、超纯水设备等)的利用范畴
◆半导体、单晶硅、集成电路、超大范围集成电路,显象管、触摸屏、液晶显示,高精度线路板,光学、光电类器件,各类电子器件,微电子工业、IC 芯片封装行业,太阳能硅片清洗、 LCD 清洗等.
◆医药行业用水，对于超纯水。生物、生化实验室用水,制药行业,无菌、无热源注射用水、制剂工艺用水，病院血液透析用水、生化分析用水、输液医药用水等。 

◆热电厂用水处理、冶金工业用水处理、航天工业、汽车工业等.
◆制取热力、火力、涡轮发电锅炉用水，厂矿企业中、高压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。
工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用超纯去离子水(指除去了呈离子方式杂质后的纯水)设备工艺流程 ◆工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用超纯去离子水(指除去了呈离子方式杂质后的纯水)设备传统工艺:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→紧密过滤器(或称保安过滤器)→阳离子树脂交换柱→阴离子树脂交换柱→阴阳离子树脂交换混床→终端紧密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）. ◆工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用超纯去离子水(指除去了呈离子方式杂质后的纯水)设备新工艺一:
原水(设有压力保护)→增压泵→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→紧密过滤器(或称保安过滤器)→两头水箱→RO前水泵→紧密过滤器(或称保安过滤器)→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端紧密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下,25 ℃）
◆工业(又称超纯水机、超纯水设备等)/半导体用超纯去离子水(指除去了呈离子方式杂质后的纯水)设备新工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵(一用一备)→砂过滤器→炭过滤器→软化器(根据地区不合选用)→紧密过滤器(或称保安过滤器)→两头水箱→RO前水泵→紧密过滤器(或称保安过滤器)→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→普通混床→抛光混床→终端紧密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水（水质可以达到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下,25 ℃）