半导体超纯水制备工艺特点简介
半导体超纯水制备工艺特点简介
半导体超纯水制备工艺特点简介

ltld半导体超纯水制备工艺特点简介

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-10-13 16:40:26
100
产品属性
关闭
莱特莱德(上海)水处理设备有限公司

莱特莱德(上海)水处理设备有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

半导体超纯水制备工艺特点简介
  1、设计参数准确、系统运行稳定;
  2、仪器仪表完善,在线读取运行数据;
  3、设备欠压或超压时,可及时报警停机;
  4、自动化程度高,减少人力投入;
  5、设备集成度高,便于运输与安装。

详细介绍

  半导体超纯水制备工艺

  超纯水设备一般采用反渗透作预处理再配上去离子(EDI)装置,利用反渗透原理,有效去除水中各种盐份、离子、颗粒,细菌等,有着产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保无污染、维护方便等优点,能满足客户的用水需求。

  半导体超纯水制备工艺特点

  1、设计参数准确、系统运行稳定;

  2、仪器仪表完善,在线读取运行数据;

  3、设备欠压或超压时,可及时报警停机;

  4、自动化程度高,减少人力投入;

  5、设备集成度高,便于运输与安装。

637601433040236672553.jpg

  半导体超纯水制备工艺应用范围

  1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

  2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

  3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

  4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

  莱特莱德公司服务流程简介

  客户前期询问设备,我们会报合理的价格,然后双方达成协议,由设计部门设计产品,可定制。

  产品设计完成以后,生产部门尽快生产。我们安排物流公司进行发货。

  技术人员上门现场安装,并培训设备使用人员基本操作知识。

  随时跟踪客户产品使用情况和,提高解决问题效率和设备使用寿命。

  莱特莱德公司生产超纯水设备,从研发、设计、运输、安装、售后,全面的为客户服务。您可提供产品设计的意见和想法,我们可按您的相应要求定制,全自动设备,您会使的安心,用的放心。


上一篇:电镀废水难处理?看膜分离技术如何一招破解! 下一篇:超纯水设备助力芯片行业大放异彩
提示

请选择您要拨打的电话: