一、设备简介

M6 Spin Coater可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片，使用无刷直流双向旋转马达控制，转速稳定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3寸全彩触屏人机界面操作，简单易用。M6 Spin Coater外形美观，结构紧凑，专为实验室，研发和小规模生产部门提供性价比高的匀胶涂覆设备。M6 Spin Coater在材料、化学或生物等实验室被广泛用于薄膜制备，纳米薄膜研究等相关领域。

二、技术参数：

▲1.保护气体装置：旋涂过程中对旋转马达进行气流保护（可选择取消）；

2.支持Wafer尺寸：直径10-150mm，方片125x125mm，无需更换片托（可选3mm，5mm托盘）;

3. 设备材质：全部采用易清洁的NPP天然聚丙烯材质，环保，抗震，耐腐蚀；

▲4.无刷马达：直流双向旋转，正反旋转速度0~±12000rpm，稳定性能误差±1rpm；

5.马达安全模式：可设置非真空模式，转速3000rpm，加速度500rpm/s；

6.加速度：65535rpm/S（空载），32767rpm/S（负载 参考：100mm直径标准晶圆片）；

7.工艺时间：每步可以设定45小时29分钟10秒，精度0.1秒；

8. PLC控制：4.3寸全彩触摸屏PLC可编程的控制器；

9.程序段：可存储99个程序段，每个程序段可设置50个不同步骤的速度状态；

10.无油真空泵：220V/50Hz；真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节；

11.扩展功能： 可升级预留端口，可扩展自动滴胶装置、自动去边装置、手动去边等选配项。

三、设备性能特点：

马达控制：无刷直流双向旋转；

智能程控：控制器可拆卸，4.3寸全彩触屏，配有智能触碰笔，按键有提示音，选中有颜色区分，适用于手套箱；

腔体材质：易清洁的NPP天然聚丙烯材质，抗腐蚀性；

模式切换：可自由切换单步模式、多步模式和曲线分析图；

水平调节：设备垫脚可调节水平；

防止堵胶：双真空腔设计；

预留端口：可升级扩展其他多种选配项；

密码功能：设有开机密码和管理员密码，管理员有权限修改核心参数；

安全报警：系统盖板嵌锁、真空异常、通气异常、系统进胶、马达转速异常均会报警，通过声音和界面对话框提示；

气流保护：旋涂过程中对马达进行气流保护（也可选择取消），易维护，易清洁，大幅提高马达使用寿命；

四、应用领域：

• 半导体芯片制造
• 钙钛矿太阳能电池制备
• 微纳和微流控
• 纳米薄膜
• 高分子材料
• 有机光伏
• 有机发光二极管
• 有机场效应晶体管&薄膜晶体管
• 石墨烯&二维材料

主营产品：

Laurell匀胶机    

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪 

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机      

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统，湿站系统    

Wabash/Carver自动压片机