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京迈研 三氧化钼靶材 MoO3磁控溅射材料
¥1000京迈研 氧化铜靶材 CuO磁控溅射材料
¥800京迈研 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料
¥1000京迈研三氧化钨靶材 WO3磁控溅射材料
面议京迈研羟基磷灰石靶材 Ca2O5P磁控溅射材料
¥1000京迈研氧化锌铝靶材 AZO磁控溅射材料
¥1000京迈研三氧化二铬靶材Cr2O3磁控溅射材料
¥1000京迈研五氧化二铌靶材Nb2O5磁控溅射材料
¥300京迈研 氧化钕靶材 Nd2O3磁控溅射材料
¥1000京迈研 四氧化三钴靶材 Co3O4磁控溅射材料
¥1000京迈研 氧化铝靶材 Al2O3磁控溅射材料
¥500京迈研 二氧化铈靶材 CeO2磁控溅射材料
¥800【参数说明】
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例 重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
铪为银灰色的金属,有金属光泽;金属铪有两种变体:α铪为六方密堆积变体(1750℃),其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。金属铪有较高的中子吸收截面,可用作反应堆的控制材料。
晶体结构有两种:在1300℃以下时,为六方密堆积(α-式);在1300℃以上时,为体心立方(β-式)。具有塑性的金属,当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定,灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用,但易溶解在王水和氢氟酸中。在化合物中主要呈+4价。五碳化四钽铪(Ta4HfC5)是已知熔点的物质(约4215℃)。
中文名 | 铪 | 熔点 | 2227℃ |
化学式 | Hf | 沸点 | 4602℃ |
原子量 | 178.49 | 密度 | 13.31克/立方厘米(20℃) |
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。