高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆)

高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆)

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-10-15 09:48:18
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上海续波光电技术有限公司

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产品简介

高品质大面积光学薄膜沉积系统1.主腔体:圆柱形304不锈钢、长方形前门、2个观察窗口、大约1000L2.真空系统:螺旋泵80m3/h+低温泵10,000l/s(N2)3.离子源:RF耦合(2MHz),filament-free离子源用于惰性气体和氧气束径100mm

详细介绍

高品质大面积光学薄膜沉积系统

 

1.       主腔体:圆柱形304不锈钢、长方形前门、2个观察窗口、大约1000L

 

2.       真空系统:螺旋泵80m3/h+低温泵10,000 l/s (N2)

 

3.       离子源:RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于惰性气体和氧气

                         束径100mm, 电流>200mA,电子能量1-2 KeV

                        工艺气体:4个流量控制机,用于氧气、稀有气体

                        Ar等离子体,电子束流500mA

      3a.     离子源升级:代替标准离子源(3)

                                RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于惰性气体和氧气

                                束径150mm,电流大于500mA,电子能量大于1 KeV

                                工艺气体:4个流量控制器,用于氧气、稀有气体等

                                Ar等离子体,电子束流900mA

      3b.     辅助离子源:RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于Ar和氧气

                                      工艺气体:2个流量控制器,氧气和稀有气体

                                束径100mm,离子能量200-1000 eV,束流0-200mA

 

4.                 400m×200mm (标准3);400mm×250mm(选项3a)

                              标准材料:Ta>99.998%,Si>99.999%

      4a.      可选靶  200mm×200mm 或200mm×250mm     

                              材料:Nb>99.95%, HfO2>99.99%, Al>99.999%, Ti>99.99%

                              更高纯度或其他材料可以提要求

 

      5   样品台        平面、真空兼容Al样品台

                              Bottom-up coating 法

                              沉积区域直径200mm(标准3)、沉积区域直径350mm(选项3a)

                              旋转速度0-120rpm

      5a.         Load Lock可选  

                    直径400mm,加载重量5kg

                    螺旋泵+分子泵抽高真空

                    手动加载,自动送样

      5b.        衬底加热可选    

                   石英加热器,最小功率1.6KW,衬底温度280℃

                   采用热电偶控温

 

       6.    OMS               波长范围380-1050nm

                                     波长分辨率2nm

                                     测量误差补偿<0.2%

                                     测量误差噪音<1%峰值(@650nm)

                                     全自动控制

                                     积分时间:2ms

 

       6a.    DUV可选          DUV延长宽波段OMS

                                        波长范围230-380nm

                                        波长分辨率2nm

                                        测量误差补偿<2%

                                        测量误差噪音<1%峰值(@350nm)

                                        积分时间:10ms

 

        6b.     IR可选           波长范围900-1700nm

                                        波长分辨率5nm

                                        测量误差补偿<2%

                                        测量噪音<1%峰值(@1200nm)

                                        积分时间:12ms

 

        7     系统性能表现:

                       真空度    基准真空度<3×10-7mbar

                                      工作气压<1×10-3mbar

                       标准靶     沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @200mm直径 (标准3)

                                       沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @350mm直径(3a选项)

                       薄膜均匀性         优于±1%@<直径200mm(标准3)

                                                   优于±1%@<直径350mm(选项3a)

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