超纯水设备是一款制备半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路等行业清洗半成品、成品用纯水、高纯水、超纯水的装置。

电路板用水特征

 1. 大规模集成电路元器件的生产用水，一般电阻率均大于18MO-CM。按国家有关用水标准(GB/T11446.1-1997)执行。

 2. 电子元件厂，在焊接和组装过程中的冲洗用水。依据电子元件生产工艺不同，其用水标准中(即GB/T11446.1-1997)有可为四级(一级电导率18MO-CM以上，二级电阻率不低于15MO-CM，3级电阻率12MO-CM, 4级为0.5MO-CM)。

设备特点

     电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

设备流程

   1、采用离子交换方式，其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→阳树脂床→阴树脂床→阴阳树脂混合床→微孔过滤器→用水点

 2、采用两级反渗透方式，其流程如下:自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→精密过滤器→一级反渗透主机→PH调节→混合器→二级反渗透主机(反渗透膜表面带正电荷)→纯水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点

 3、采用高效反渗透加EDI方式，其流程如下(工艺):自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点

应用领域

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;

2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;

3、实验室和中试车间用超纯水;

4、汽车、家电表面抛光处理;

5、光电子产品;

6、其他高科技精微产品。