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8.5"实验室等离子清洗机配有一个直连式双旋真空泵,可对腔体进行抽真空,同时通入氩气等保护气体,适用于对易氧化的物品的清洗。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理,将对生长具有显著的作用。
8.5"实验室等离子清洗机技术参数:
输入功率 | • AC 220V , 50/60 Hz, • 射频功率:80 W Max.(标准) • 真空泵:正常550W,启动750W • 总功率:830W max. • 工作电流≤3A |
射频功率 | • 射频功率可在0-80W范围内调节 • 射频:13,56 MH • 可选:可根据要求提供300 W射频电源,需额外收费 |
等离子室 | • 8.5" O.D×8.2" I.D×14" L高纯度石英室 • 体积: 12 L • 铰链式前法兰由铝制成 • 2.3”直径(60mm)石英窗口,便于观察 • 屏蔽RF辐射,零RF泄漏 |
控制面板 | • 6”彩色触摸屏,可自动控制所有参数,用于等离子清洁,如真空度,气体流速,RF功率水平和清洁时间。 • 内置一个通道质量流量计(0-500ml /分钟),控制气体流量+/- 0.5 ml / m |
真空泵和阀门 | • 包含排气过滤器,KF25D适配器和夹具的240 L / m重型旋片式真空泵可立即使用 • *终总压力为50 mTorr |
惰性气体 | • 可以选择许多惰性气体进行等离子体清洁,如N2,Ar,空气和混合气体,取决于将要处理的材料类型。(不包括在包装内) • 等离子清洁器不得使用 |
总体尺寸 | 620 L×600 W×600 H, mm |
保证 | 一年有限保修,终身支持(耐热玻璃室无保修) |