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研究开发用等离子清洗机
用途：
CSB/BGA/COB基板的等离子处理
有机膜和金属氧化膜的除去
印刷电路基板的干洗
界面活性处理
| 型号 | PDC200 | PDC210 | PDC510 |
| 模式 | RIE模式（DP选配） | DP模式 | DP/RIE切换方式 |
| 电极构造 | 平行平板电极（固定） | ||
| 高频输出功率 | MAX300W | Max 500W | |
| 频率 | 13.56MHz | ||
| 控制方式 | 自动联动，液晶触摸屏控制 | ||
| 反应室尺寸 | 400×250×150mm | 500×300×200 | |
| 电极尺寸 | 250×170mm | 400×200mm | |
| 反应室材质 | 一次性一体成型铝腔（防腐蚀，可对应CF4） | ||
| 反应气体 | 2系统（Ar/O2） | ||
| 填充气体 | N2/洁净干燥空气 | ||
| 反应气体流量控制 | 流量计 | 聚合控制器 | |
| 真空泵 | 另行选配 | 油回旋真空泵（排气量345L/min） | 油回旋真空泵（排气量500L/min） |
| 气体导入口 | 反应气体2套，填充气体1套 | ||
| 外型尺寸 | 540×600×600mm | 540×600×600mm | 700×700×700mm |
| 电源 | 单相AC100V 15A 50/60Hz | 三相AC100V 15A 50/60Hz | |
