常规工艺参考：

半导体生产用超纯水设备概述：

半导体生产用超纯水设备配件材料和耗材均采用国际主流*可靠产品，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

半导体生产用超纯水设备参数：

原水：自来水、井水、地下水、中水；
进水压力：0.2~0.3MPa；
运行压力：0.3~1.5MPa；
脱盐率：＞99%；
控制：全自动控制/手自一体化自动切换；
产水量：0.25~200T/H(根据客户需求而定)；
材质：PVC/304/316L/FPR；
工艺：反渗透膜分离+电去离子(EDI)；
产水电阻率：18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、5MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等；