JEM-3200FS场发射电子显微镜

JEM-3200FS场发射电子显微镜

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具体成交价以合同协议为准
2023-03-26 09:44:38
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深圳市蓝星宇电子科技有限公司

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产品简介

JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。

详细介绍

JEM-3200FS 场发射透射电子显微镜

JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。

产品规格:

物镜极靴*1

超高分辨UHR

高分辨率HR

高倾斜HT

高衬度HC

分辨率

 点分辨率
晶格分辨率

0.17nm
0.1nm

0.19nm
0.1nm

0.21nm
0.1nm

0.26nm
0.14nm

能量分辨率

0.9 eV(零损失FWHM)

加速电压

300kV,200kV,100kV*2

 最小步长
 能量位移

100V
3,000V (以0.2V为步长)

电子枪

 发射体

ZrO/W(100) 肖特基式

 亮度

≧7×108 A/cm2 ・ sr

 真空度

3×10-8Pa

 探针电流

探针直径为1nm时,电流在0.5nA以上

稳定度

 加速电压

2×10-6/min

 物镜电流

1×10-6/min

 过滤器透镜电流

1×10-6/min

物镜

 焦距

2.7 mm

3.0 mm

3.5 mm

3.9 mm

 球差系数

0.6 mm

1.1 mm

1.4 mm

3.2 mm

 色差系数

1.5 mm

1.8 mm

2.2 mm

3.0 mm

 最小焦距步长

1.0 nm

1.4 nm

1.5 nm

4.1 nm

束斑尺寸

 TEM 模式

2 ~ 5 nmφ

2 ~ 5 nmφ

7 ~ 30 nmφ

 EDS 模式

0.4 ~ 1.6 nmφ

0.5 ~ 2.4 nmφ

4 ~ 20 nmφ

 NBD 模式

0.4 ~ 1.6 nmφ

0.5 ~ 2.4 nmφ

-

 CBD 模式

0.4 ~ 1.6 nmφ

0.5 ~ 2.4 nmφ

-

电子束衍射

 衍射角(2α)

1.5 t~ 20 mrad

-

 取出角

±10 °

-

倍率

 MAG 模式

×2,500 ~ 1,500,000

×2,000 ~ 1,200,000

×1,500 ~ 1,200,000

 LOW MAG 模式

×100 ~ 3,000

 SA MAG 模式

×8,000 ~ 600,000

×6,000 ~ 500,000

×5,000 ~ 500,000

视野

10eV时狭缝宽度60mm(底片上)
2eV时狭缝宽度25mm(底片上)

相机长度

 选区电子衍射

200 ~ 2,000 mm

250 ~ 2,500 mm

400 ~ 3,000 mm

EELS 散射

 能量选择
 在能量选择狭缝上

0.85 μm/eV , 300 kV

 底片上

100 ~ 220 μm/eV , 300kV

样品室

 样品移动范围 (XY/Z)

2mm/0.2mm

2mm/0.4mm

2mm/0.4mm

2mm/0.4mm

 样品倾斜角 (X/Y)

±25°/±25°*3

±35°/±30°*3

±42°/±30°*3

±38°/±30°*3

EDS*4

 固体角

0.13 sr

0.09 sr

 取出角

25°

20°

产品特点:

· JEM-3200FS场发射电子显微镜配备了加速电压为300kV的场发射电子枪(FEG)和镜筒内置式Ω型能量过滤器,能为广泛的研究领域提供各种全新的解决方案。

· 镜筒内置式Ω型能量过滤器(omega 过滤器)

· 镜筒内置式Ω型能量过滤器内置于成像透镜系统,能容易地获得能量过滤像和能量损失谱,同时还能获得与传统电子显微镜同等的放大倍率范围。此外、Ω型过滤器的电子光学系统在设计上地减少了图像畸变,出厂前还将剩余一点的畸变做了最后的修正。JEM-3200FS还采用了高灵敏度的相机系统及图像处理系统(选配件),可以构建元素面分布系统及能量损失谱系统。

· 新型控制系统

· 电子枪、电子光学系统、测角台、抽真空系统等电子显微镜基本功能的系统化,实现了高稳定、高性能的控制系统。图像画面和用户界面 采用Windows ®*1,可以进行编程操作和附件的集中控制。

· 新型测角台

· 系统化的新型测角台内置压电陶瓷驱动机构,使高倍率下的样品移动更加精确。*2.

· *1 : 注意事项:Windows是微软公司在美国和其他国家的注册商标。
*2 : 仅有压电元件包括在基本单元中,压电元件的电源为选配件。

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