应用范围概述：

    电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水  液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片 硅片纯水 光伏硅材料DI超纯水设备-硅圆生长/切片清洗高纯水 硅材料单晶硅DI

涂料行业用超纯水的工艺流程: 

电池行业制备超水的工艺大致分成以下几种：

1、采用离子交换方式，其流程如下：

    原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点

2、采用两级反渗透方式，其流程如下：

    原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点   

3、采用EDI方式，其流程如下：

    原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点 

涂料行业用超纯水的工艺比较：

    1、种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏性。

    2、第二种采用两级反渗透设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但无须树脂再生。其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换，水质相对来说不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不质要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床（阴阳复床）把关。

    3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子（EDI）装置，这是目前制取超纯水，的超纯水制备工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

设备特点:

    为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量。在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

    电子行业超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备.在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下,采用*的反渗透膜元件.压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备,使产品出水符合各类电子行业生产标准的超纯水.控制系统选用PLC或计算机DCS程序控制,可实现自动起停、加药及冲洗,自动监测各种运行参数,并可实现运行参数的储存及打印 广泛适用于： 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路 LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂 光导纤维、光盘。