光电半导体氧化实验无氧烘箱公司
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HZF系列光电半导体氧化实验无氧烘箱公司

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-11-04 15:17:10
91
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上海海向仪器设备厂

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产品简介

适用于半导体、无氧铜、光电元件、能原材料、通讯产品、机电产品等无氧化干燥、固化、焊接、退火等处理工艺。

详细介绍

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一、设备用途  

 适用于半导体、光电元件、能原材料、通讯产品、机电产品等无氧化干燥、固化、焊接、退火等处理工艺。

 


二、技术参数  

 

参数/型号

HZF-100L

HZF-150L

HZF-250L

HZF-500L

容积(L)

100L

150L

250L

500L

内部尺寸mm

470*450*450

500*600*500

800*700*900

1000*1000*1000

外部尺寸mm(约)

940*720*1530

970*870*1580

1270*970*1980

1470*1270*2080

温度范围

室温+15~250℃

温度波动度

±0.2℃

电热管

无尘化电热器5KW×1 Sets

真空度

100KPa~0.1KPa

设计极限真空

0.2KPa

真空度泄漏率

24小时平均漏气率≤800Pa

升温速率

RT~150℃ 约30min

降温速率

150℃~60℃ 约30min

真空速率

< 0.2KPa/5Min

真空度释放

< 5~15 min(可调),破真空气体可以切换(氮气与空气:空气带过滤)

氧含量

腔体氧含量≤1000PPM

氮气流量

氮气流量10~100L/Min浮子流量开关

隔板

两块

三块

 


三、结构特点

(1) 采用立式腔体设计,上部为工作腔体,腔体内有隔板与冷却管道、后背鼓风电机、下箱柜有真空泵、冷却管路与颗粒物过滤器安装在下部电器柜内,腔体内设有抽气口、放气口、氮气进气口、抽气真空阀安装在箱体底部后背;


(2) 箱体外壳:优质A3/厚度1.5mm冷轧钢板加100*100*80mm槽钢焊接而成,表面静电喷塑;


(3) 内腔体:进口SUS304/厚度3.0/5.0mm拉丝不锈钢板;


(4) 开门机构:槽钢与钢化玻璃连接制成(单开门);


(5) 门封材料:箱门闭合松紧能调节,整体成型日本进口硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度;


(6) 温度控制:高精度微电脑PLC程序控温仪,采用PID与经验值模糊控制技术,控温精确、工作温度任意设定,数据记录储存,USB数据导出功能,故障报警查询功能;


(7) 真空控制:通过PLC继电器来控制自动抽真空,且实现延时抽真空及定时开关机。抽气管路装有电磁阀。可设置定时开启真空泵,自动抽气,定时停机功能,数据记录储;

 

保护系统

独立超温报警切断加热电源

漏电保护

断阻丝报警

风机过热保护

真空泵过热过载保护

水冷流量保护

氮气超压保护

相序保护器

接地等保护

 


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