快速升温CVD系统

HCV-1100R快速升温CVD系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-08-22 09:50:21
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上海翰军实验设备有限公司

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产品简介

一、概述:这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉,2通道气路系统和低真空系统组成

详细介绍

一、概述:

   这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉,2通道气路系统和低真空系统组成。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。本套系统用于CVD退火,也可以应用于于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

二、主要技术参数

1200加热炉

电压

AC380V    50/60Hz

功率

24KW

加热区长

400mm

使用温度

1100

工作温度

1000

升温速率:

600/min

温控系统

PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率, 30段可编程控制器,

恒温精度

±5

石英管

Φ50/60/80/100*1400mm

两路质量流量控制系统

 

电压

185~24V/50Hz

输出功率:

18W

流量计标准量程

300SCCM

工作温度:

5~45 oC

工作压差:

0.10.5 MPa

压力:

3Mpa

准确度:

±1.5% FS

真空系统

 

1.采用双极旋片真空泵,真空度可达5×10-1 Torr不锈钢充油真空压力表,良好的抗震性

2.安装过滤器

法兰及支撑

 

304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀一个卡箍就能完成法兰的连接,放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑,平衡炉管的受力支撑

包含进气、出气、真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封硅胶圈等

可选配件

 

混气系统,中、高真空系统,各种刚玉坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机等。

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