HTF-1200III三温区管式炉

HTF-1200III开启式真空气氛管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用优质氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，并能打开炉盖，迅速降温 参考价面议

HJL-12001200坩埚炉

产品特点:HJL-1200坩埚炉以掺钼电阻丝为加热元件，采用智能化控温系统，炉膛采用真空吸附成型的优质氧化铝多晶纤维无机材料，炉体为双层炉壳，采用当前流行的空气隔热技术，快速有效的降低外壳温度 参考价面议

HJL-1200开盖式

产品特点:HJL-1200坩埚炉以掺钼电阻丝为加热元件，采用智能化控温系统，炉膛采用真空吸附成型的优质氧化铝多晶纤维无机材料，炉体为双层炉壳，采用当前流行的空气隔热技术，快速有效的降低外壳温度 参考价面议

HJL-1200前开始坩埚炉

一、主要功能和特点：集控制系统与炉膛为一体炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝 参考价面议

HJL-1200盐浴炉

一、产品简介：本系列电阻式盐浴炉系周期作业式，供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理时加热用，高温炉还可作金属、陶瓷的烧结、熔解、分析等高温加热用 参考价面议

H-CVD-1200S二硫化钼CVD系统

一、概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下，稳定控制硫蒸汽的蒸发时机和蒸发温度 参考价面议

H-CVD-1200RCVD高真空快速退火炉

一、概述：这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉，2通道气路系统和真空系统组成 参考价面议

HCV-1100R快速升温CVD系统

一、概述：这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉，2通道气路系统和低真空系统组成 参考价面议

H-CVD-1200滑动式CVD系统

概述：这款配置的低真空CVD系统集1200℃真空管式炉，3通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器） 参考价面议

H-CVD-1200S硫化物CVD系统(一体式）

一、概述此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便 参考价面议

H-CVD-1200S硫化物CVD系统（分体式）

一、概述此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便 参考价面议

HRTP-1200立式红外管式炉

主要特点:HRTP-1200立式红外管式炉（可手动旋转）以优质红外加热管为加热元件，采用双智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用优质氧化铝多晶体纤维材料，能快速升降温，并能打开炉盖，迅速降温 参考价面议