昆山国华等离子处理设备-半导体去氧化膜
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GH-80昆山国华等离子处理设备-半导体去氧化膜

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2019-08-01 08:54:57
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昆山国华电子科技有限公司

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产品简介

昆山国华等离子处理设备-半导体去氧化膜
作为“新一代电子的基础材料“而备受显示器技术人员关注的就是氧化物半导体TFT。因为氧化物半导体TFT是驱动超高精细液晶面板、有机EL面板以及电子纸等新一代显示器的TFT材料佳候选之一。预计早将在2012~2013年开始实用化,将来或许还会成为具备“柔性“和“透明“等特点的电子元件的实现手段。氧化物半导体是通常容易成为绝缘体的氧化物,但却具有半导体的性质

详细介绍

昆山国华等离子处理设备-半导体去氧化膜

 

产品规格

 

 

 

国华GH-80等离子体表面清洗系统标准配置表

机台名称

等离子体表面清洗系统

机台型号

GH-80

机台用途

种气体通入,不同组合用于不同工艺制造,可用于高频板PTFE类、软硬结合板、多层软板等除胶渣等制造工艺,柔性板化金前后清洗、打线邦定前清洗等处理,SMT前清洗等

技术参数

备注

1

机台整机规格

1070mm(W)×1050mm(D)×1650mm(H)

 

2

真空室规格

进口铝470mm(W)× 330mm(H)× 515mm(D)

 

3

电极板规格

进口铝450(W)× 400(D)mm

 

4

单层有效处理区尺寸

400(W)× 350(D)mm/拉丝绝缘网托架/托架到极板间距26MM

 

5

真空电极结构

水平电极板6层, 处理5层工件

 

6

真空泵系统

爱德华干泵/优成泵

 

7

PLC自动控制系统硬件

OMRON/SIEMENS-PLC及扩展模块(D/A转换、A/D转换、温度控制)

日本欧姆龙/西门子

8

人机工控系统

触摸屏式全中文界面

 

9

温度控制系统

日本欧姆龙OMRON温度传感模块,PID闭环控制,温度可控

 

10

真空测定系统

皮拉尼电阻式真空计

日本爱发科

11

真空供气系统

Ф6品牌软管+不锈钢锁套管路

进口优质不锈钢

12

真空排气系统

全不锈钢管路+波纹管

进口优质不锈钢

13

破真空系统

倒计时自动开合启动

 

14

气体控制系统

电磁阀控制

日本CKD

15

气体计量系统

2路精确质量流量控制计:MFC

SevenStar

16

等离子发生器

额定功率:0-500W,13.56MHZ全自动匹配国华自主研发)

 

17

其他组件

国内外元器件

 

18

机台总重

500kg

 

19

额定功率

额定功率 4KW

 

20

机台供电

 AC-380V-50Hz,三相五线

 

21

单次处理时间

10-60分钟不等(根据产品特征,时间设定不同)

 

22

工作真空度

0.15~0.3Torr (可根据要求设定,可恒定真空度)

 

23

真空泵极限压力

5pa以下

 

24

抽真空时间

抽到工作真空≤180秒

 

25

破真空时间

≤60秒

 

26

供气方式

电磁阀式

 

27

流量计调节范围

2路独立MFC  0-300sccm(毫升/分钟),      

 

28

操作方式

人工取放工件,一键启动自动控制

 

 

公司由多名*从事等离子体技术应用研究,设计制造和销售的业内*人士创建。核心技术发轫于欧洲,同时充分借鉴欧美的*技术,并通过与国内外研发机构合作,

我司有多位从事等离子行业的专家和学者多名,目前国内外的等离子设备都在帮客户做售后和

      维护,很多国外等离子设备已经不具备售后服务或者售后服务价格昂贵,我司现在已经为很多购买国外设备(比如:美国March、PE、韩国、德国等)的客户做售后服务。

 

等离子表面处理

等离子表面处理器是一款广泛应用于印刷包装、硅橡胶制品、玻璃精密、电线电缆、电子数码、汽车制造、医疗生物,纺织工业、复合材料和新能源等几乎所有的工业领域的机械设备。 

表面改性原理

低温等离子体中的粒子能量一般约为几个至十几电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个至十几电子伏特),*可以破裂有机大分子的化学键而形成新键,但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。通过低温等离子体表面处理,材料表面发生多种的物理、化学变化,或产生刻蚀而粗糙,或形成致密的交联层,或引入含氧极性基团,使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

半导体去氧化膜/有机物等离子表面处理设备优势
硬件:设备核心部件采用世界元器件,稳定性高,设备寿命长,可稳定运行10年以上;制造工艺:欧洲制造品质,20多年的丰富制造经验。拥有RTR设备核心技术:多项发明软件:软件除了可以编程并显示压力、温度、气流量等工艺参数外,还具备设备自检功能,通过自检,维护人员可判断设备状态,便于快速找出设备问题并维护。 低温设计:处理过程中可维持恒温状态,并可调节并控制温度,减小温度对材料性能的影响。
3、服务优势
我们的服务分为售前服务、售中服务、售后服务和代加工服务。
1) 售前服务
A: 专业的介绍加以专业人员的实践经验,让客户初步了解我们,通过试样让客户深入了解我们
的产品。
B: 多年从事等离子的工程师进入车间,针对用户的需求及生产情况,行之有效的工艺参数。
2) 售中服务
A: 根据用户需求和生产做出设备的优化、解决方案。
B: 机型选择,客户报价,快速反应,一切从客户的实际出发。
3) 售后服务
A: 快速的交期,让客户能以快速使用。

昆山国华等离子处理设备-半导体去氧化膜,昆山国华电子设备值得拥有!

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