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伯东 Pfeiffer 真空泵用于同位素测试仪器
¥100000真空泵Hipace 1200及ACP 40用于制冷项目
¥100000伯东 Pfeiffer 真空泵用于真空管式炉
¥100000伯东 真空泵在分子束外延MBE设备上的应用
¥100000伯东Pfeiffer真空泵在石墨烯生长装置的应用
¥100000普发分子泵常见问题
¥100000涡轮分子泵的压缩比定义
¥100000分子泵内部油润滑与脂润滑区别
¥100000Pfeiffer 旋片泵日常保养及常见故障
¥100000分子泵组用于搭配低温阻抗测试仪
¥100000氦质谱检漏仪回旋加速器检漏
¥100000上海伯东提供金属焊接波纹管检漏方案
¥100000
HUD 已经成为一种常见的汽车配置与功能, 通过它来直观显示速度、发动机转速或其他悬停在驾驶员视野中的信息, 减少因低头查看仪表盘而造成的分心, 提升驾驶安全. 目前量产的车用抬头显示 HUD 正在从风挡型 W-HUD 逐渐向增强现实型的 AR-HUD 发展:从单纯的信息展示屏幕, 变成了具有在实际路况位置产生警示符号的增强现实(AR) 效果.
W-HUD/AR-HUD 一直都依赖光学凹面镜成像原理实现距离与视觉尺寸的放大, AR-HUD大的技术挑战在于:高放大倍率所衍生的高倍率畸变差晕眩问题与太阳光倒灌烧毁光机的问题. 要使用越小的体积产生同样的长虚像距离 (VID) 距离, 放大倍率就得越大. 放大倍率越大, 阳光倒灌与晕畸变差眩就越严重. 防阳光倒灌滤光片可通过 RGB 窄带滤光片来实现. 滤光片可实现可见光波段的高透过率, 同时截止近红外和紫外波段, 获得高的亮度测量灵敏度和动态范围.
KRi 离子源应用于车载AR-HUD 镀膜
上海伯东某客户使用自主研发的镀膜设备, 配备美国 KRI 射频离子源辅助镀膜通过测验, 得到具有高透过率、高匹配精度、膜层致密度和牢固度优质, 高低温变化波长不漂移, 恶劣环境下耐久性良好的 RGB 窄带滤光片, 上海伯东为车载AR-HUD TFT 防阳光倒灌提供了优质镀膜解决方案.
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
射频离子源 RFICP 系列技术参数:
型号 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 阳极 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 | RF 射频 |
离子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
离子动能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
栅极直径 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 22 cm Φ | 38 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型压力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
长度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直径 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐