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KRi 离子源应用于蓝玻璃 AR工艺
¥300000上海伯东用于光学镀膜机的离子源和真空系统
¥300000射频离子源用于氧化物薄膜及异质结制备系统
¥300000美国霍尔离子源不规则电子晶片蒸镀前清洗
¥300000离子源在半导体材料中的预清洗及刻蚀应用
¥300000上海伯东KRI 离子源在锗基红外镀膜中的应用
¥300000KRI 霍尔离子源应用于黑膜镀制
¥300000KRI 离子源应用于车载AR-HUD 镀膜
¥300000伯东射频离子源辅助沉积镀制紫外带通滤光片
¥300000适用于太阳能电池生产的离子源和真空系统
¥300000KRI 离子源用于离子束抛光机
¥300000KRI 离子源用于UVC人机共存紫外滤光片镀膜
¥300000科研单位做元素分析测定和一般小型钢件的淬火/ 退火/ 回火和电子陶瓷等新材料的加热都会用真空管式炉.
真空管式炉以电阻丝为加热元件, 采用单层/ 双层或多层壳体结构, 智能化程序控温系统, 可控硅控制, 控温精度高达+/- 1°C, 具有温场均衡/ 表面温度低/ 升降温度速率快/ 节能等优点; 内置相应的温区, 可以营造不同的温度梯度. 炉壳间配有风冷系统, 有效降低炉壳表面温度, 管式炉特别适合于在气氛保护或真空的环境下对样品进行退火和烧结.
应用场合: 高校/ 科研院所/ 工矿企业做高温气氛烧结/ 气氛还原/ CVD实验/ 真空退火用的理想产品
一般常规使用机械泵: 10-2Torr, 如果客户要达到高真空会使用分子泵机组: 机组的真空度要求为10-5 Torr.
附图为真空管式炉图片:
管式炉配置分子泵组的配置为:
Pfeiffer 普发经济型分子泵组 HiCube 80 Eco
普发经济型分子泵组 pfeiffer HiCube 80 Eco 紧凑设计高性能, 前级泵配备干泵保证清洁无油. 分子泵组极限真空度可达< 1x10-7 hPa. 此款分子泵组是许多应用的理想选择. 分子泵组可选接口DN 63/40,可选配分子泵组显示控制器 DCU 002.
此系列分子泵组优点:
1.分子泵组紧凑设计适合所有的高真空应用
2.风冷设计, 易维护
3.前级泵 MVP 015 干式真空泵和分子泵 Hipace 80 的组合
Pfeiffer 普发经济型分子泵组 HiCube 80 Eco 技术参数:
前级泵(干式真空泵) | MVP 015 |
分子泵组 接口法兰 | 可选: DN 63/40(KF/CF/F) |
分子泵组 电源 | 110 V, 50/60 Hz; 230 V, 50/60 Hz |
前级泵抽速(50 HZ) | 0.50 m3/h |
抽速(N2) | 67 l/s |
重量 | 17kg |
分子泵组 极限真空度 | < 1x10-7 hPa |
Pfeiffer 普发经济型分子泵组 HiCube 80 Eco 尺寸图
上海伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗女士