上海伯东用于光学镀膜机的离子源和真空系统-伯东贸易（深圳）有限公司手机版

详细介绍

上海伯东提供适用于光学镀膜机的离子源和真空系统
光的干涉在薄膜光学中应用广泛. 光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜. 光学镀膜是光学器件上的单个或多个材料沉积薄层, 实现多样功能, 典型应用例如在镜片镀膜中, 为了消除光学零件表面的反射损失, 提高成像质量, 涂镀一层或多层透明介质膜, 称为增透膜或减反射膜. 薄膜沉积在新型特殊性能材料的开发和研究中起到重要作用.

光学镀膜是如何工作的？
待镀膜工件装入镀膜室, 其内将执行喷溅工艺流程. 通常是两个离子源, 一个溅射沉积源, 一个预清洁和辅助沉积源. 离子源在真空环境中产生离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 从而将薄膜加镀到工件上. 此处所需的典型真空压力一般小于 1x10-4 hPa. 清洁无碳真空环境和高稳定的离子束流是实现精确的高质量的薄膜关键.
光学镀膜机中的离子源和真空系统

光学镀膜中离子源作用
通过使用上海伯东美国 KRi 离子源可实现基板清洁和加速镀膜材料的溅射速度, 并且离子源在材料沉积过程中可帮助沉积并使沉积后的薄膜更为致密, 膜基附着力更好, 膜层不易脱落. 其中射频离子源提供高能量, 低浓度的离子束, 离子源单次工艺时间更长, 适合多层膜的制备和离子溅镀镀膜工艺. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

上海伯东 KRi 射频离子源 RFICP 参数:

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	22 cm Φ	38 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

光学镀膜中真空系统
不论是蒸发镀膜还是溅射镀膜, 上海伯东提供满足各种镀膜工艺的德国 Pfeiffer 真空泵, 比如分子泵, 旋片泵, 螺杆泵及整套泵站, 同时提供用于真空测量的真空规和用于镀膜设备腔体密封性泄露检测的氦质谱检漏仪, 以保证镀膜工艺稳定性.

推荐大抽速分子泵参数

型号	HiPace 1200	HiPace 1500	HiPace 1800	HiPace 2300
进气口	DN 200 ISO-K DN 200 ISO-F DN 200 CF-F	DN 250 ISO-K DN 250 ISO-F DN 250 CF-F	DN 200 ISO-K DN 200 ISO-F DN 200 CF-F	DN 250 ISO-K DN 250 ISO-F DN 250 CF-F
氮气抽速 l/s	1250	1400	1450	1900
极限真空度 hPa	< 1X10-7	< 1X10-7	< 1X10-7	< 1X10-7
电压 V AC	100-120 200-240	100-120 200-240	100-120 200-240	100-120 200-240
氮气压缩比	> 1X108	> 1X108	> 1X108	> 1X108
转速 RPM	37800	37800	31500	31500
预抽真空 hPa	2	2	1.8	1.8

若您需要进一步的了解光学镀膜机中的离子源和真空系统, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗小姐

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